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EUVの記事一覧

全54件中 41〜50件目を表示

  • JST，高性能EUV露光モジュール開発を成功と認定

    科学技術振興機構（JST）は，産学共同実用化開発事業（NexTEP）の開発課題「リソグラフィ用レジストの高性能化モジュール」の開発結果を成功と認定した（ニュースリリース）。 この開発課題は，大阪大学の研究グループらの研究...

    2018.12.05

  • エドモンド，極端紫外（EUV）用平面ミラーを発売

    エドモンド・オプティクス・ジャパンは，「極端紫外（EUV）用平面ミラー」の発売を開始した（ニュースリリース）。 このミラーは，精密研磨された多層膜ミラーで，設計波長と入射角（AOI）で反射率が最大となるようデザインされて...

    2018.11.21

  • 産総研ら，極端紫外線フェムト秒レーザーでガラスを高品質加工

    産業技術総合研究所（産総研），東京大学，早稲田大学，量子科学技術研究開発機構，宇都宮大学らは，極端紫外線フェムト秒レーザーで合成石英への極めて熱影響の少ないレーザー加工を実現した（ニュースリリース）。 次世代のレーザー加...

    2018.10.24

  • 旭硝子，EUV用フォトマスク原版事業を大幅増強

    旭硝子は，EUV露光用フォトマスクブランクスの供給体制を，グループ会社であるAGCエレクトロニクスにおいて，本年より大幅に増強する（ニュースリリース）。 電子機器の高機能・小型化が進むにつれ，半導体チップの計算処理の高速...

    2018.02.06

  • 九大ら，EUV光源の空間構造を解明

    九州大学，ギガフォトン，レーザー技術総合研究所らは，次世代の半導体露光（リソグラフィ）で使われる極端紫外（EUV）光源プラズマに対して，その温度や密度の空間構造を世界で初めて明らかにした（ニュースリリース）。 EUV露光...

    2017.10.04

  • 浜ホト，米EUV光源企業を孫会社化

    浜松ホトニクスは，同社連結子会社である米ホトニクス・マネージメント・コーポ（PMC）が，半導体検査装置に組み込まれる光源を製造，販売する米エナジティック・テクノロジーを子会社化することを決議し，9月20日に株式譲渡契約を...

    2017.10.03

  • ギガフォトン，EUV集光ミラー反射率低下量を更新

    ギガフォトンは，現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源について，最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源にて集光ミラー反射率低下量-0.4%/Bplsを達成し，ボトルネック解消へ大...

    2017.09.12

  • ギガフォトン，EUV光源の稼働率80%以上を確認

    ギガフォトンは，現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源について，最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源にて，量産実現レベルである稼働率（availability）80%以上のポテ...

    2017.07.12

  • ウシオのEUV採用の蘭機構，サービスを開始

    ウシオ電機の高輝度EUV光源を搭載したオランダ応用科学研究機構（The Netherlands Organization for Applied Scientific Research：TNO）のEUV照射・分析用ファシ...

    2017.06.12

  • ギガフォトン，集光ミラーの寿命延長効果を実証

    ギガフォトンは，現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ（LPP）光源について，新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の助成プログラムの成果である，最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源...

    2017.03.01

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