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EUVの記事一覧

全54件中 21〜30件目を表示

  • 北大，プラズマ流観測でEUVの高出力化に新知見

    北海道大学，大阪大学，米パデュー大学，ギガフォトンは，EUV露光の高出力化に重要な役割を果たす，光源プラズマの複雑な流れ構造を世界で初めて明らかにした（ニュースリリース）。 EUV露光では光を転送するEUV領域のミラー反...

    2023.02.07

  • eBeam，EUVがフォトマスクの売上に寄与すると予測

    電子ビーム技術の業界団体である米イービームイニシャチブ（eBeam Initiative）は，第11回目となる年次業界有識者調査が終了したと発表した。この調査は，半導体のフォトマスク，EDA，半導体設計，半導体製造装置，...

    2022.10.18

  • ラムリサーチ，EUVドライレジストでエコシステム

    米ラムリサーチは，米インテグリス，三菱ケミカルグループの米Gelestとの戦略的な協力体制を発表した（会社HP）。 この協力体制により，次世代半導体製造に用いられるEUV（極端紫外線）リソグラフィのためのラムリサーチのド...

    2022.07.14

  • エドモンド，EUVアト秒多層膜ミラーを発売

    エドモンド・オプティクス・ジャパンは，レーザーオプティクスメーカーである独UltraFast Innovations（UFI）と提携し，「UltraFast Innovations（UFI）EUVアト秒多層膜ミラー」を独...

    2022.07.04

  • エドモンド，EUVオプティクスのラインナップ拡充

    エドモンド・オプティクス・ジャパンは極端紫外線（EUV）アプリケーション向け製品として，コヒーレント回折イメージング（CDI），EUVリソグラフィ，ナノマシニング，超短パルスのアト秒パルス生成など，高次高調波発生（HHG...

    2022.07.01

  • 日立ハイテク，EUV向け電子線検査システムを開発

    日立ハイテクは，電子線広視野検査システム「GS1000」を開発したことを発表した（ニュースリリース）。 近年，半導体デバイスの微細化が進むにつれ，先端デバイスメーカーは微細かつ高精度な加工が可能なEUV露光プロセスを導入...

    2021.12.14

  • TEL，次世代EUV露光装置に塗布現像装置を導入

    東京エレクトロン（TEL）は，蘭imec-ASML joint high NA EUV research laboratory（imec-ASML，共同高NA EUV研究所）にて，2023年より稼動予定の次世代高NA E...

    2021.06.11

  • 2020年マスク市場，2019年同等かあるいは増加

    電子ビーム（eBeam）技術の業界団体であるイービーム イニシャチブ（eBeam Initiative）は業界の識者の認識に関する年次調査を終え，第6回目となる，内製及び外販マスクメーカー10社の製造動向調査の纏めを終了...

    2020.09.28

  • DNP，5nmプロセス向けフォトマスク技術を開発

    大日本印刷（DNP）は，マルチ電子ビームを使うマスク描画装置を利用し，現在の半導体製造の最先端プロセスであるEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応する，5nmプロセス相当のフォト...

    2020.07.13

  • 東大ら，極端紫外光で薄膜の微細加工に成功

    東京大学，量子科学技術研究開発機構，宇都宮大学，産業技術総合研究所の研究グループは，近赤外域のフェムト秒レーザー光の高次高調波として極端紫外光を発生させ，その極端紫外光を回折限界にまで集光して試料に照射することによって，...

    2020.05.15

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