エドモンド,EUVオプティクスのラインナップ拡充

エドモンド・オプティクス・ジャパンは極端紫外線(EUV)アプリケーション向け製品として,コヒーレント回折イメージング(CDI),EUVリソグラフィ,ナノマシニング,超短パルスのアト秒パルス生成など,高次高調波発生(HHG)アプリケーションに向けた「極端紫外(EUV)用ダイクロイックフィルター」を追加したと発表した(ニュースリリース)。

ダイクロイックビームスプリッターもしくはビームセパレーターとしても知られるこの製品は,5nm~40nmの広い帯域幅を有し,EUVから近赤外(NIR)の波長にわたって高い分離効率が得られる。このフィルターは合成石英製のため,ブリュースター角のビームセパレーターなど,他の種類のEUV フィルターよりも高いレーザーパワーに対応するという。

また,同社のEUVオプティクスの在庫販売品の中ではもっとも新しい製品であり,ラピッドプロトタイピングのほか,研究開発や製品開発のスピードアップが可能になり,光学システムのインテグレーターはこれまで特注製作に費やしていた長いリードタイムを節約することができるとしている。

さらに同社では,「極端紫外(EUV)用平面ミラー」,「UltraFast Innovations(UFI)EUVアト秒多層膜ミラー」も販売しているという。

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