エドモンド・オプティクス・ジャパンは極端紫外線（EUV）アプリケーション向け製品として，コヒーレント回折イメージング（CDI），EUVリソグラフィ，ナノマシニング，超短パルスのアト秒パルス生成など，高次高調波発生（HHG）アプリケーションに向けた「極端紫外（EUV）用ダイクロイックフィルター」を追加したと発表した（ニュースリリース）。
ダイクロイックビームスプリッターもしくはビームセパレーターとしても知られるこの製品は，5nm～40nmの広い帯域幅を有し，EUVから近赤外（NIR）の波長にわたって高い分離効率が得られる。このフィルターは合成石英製のため，ブリュースター角のビームセパレーターなど，他の種類のEUV フィルターよりも高いレーザーパワーに対応するという。
また，同社のEUVオプティクスの在庫販売品の中ではもっとも新しい製品であり，ラピッドプロトタイピングのほか，研究開発や製品開発のスピードアップが可能になり，光学システムのインテグレーターはこれまで特注製作に費やしていた長いリードタイムを節約することができるとしている。
さらに同社では，「極端紫外（EUV）用平面ミラー」，「UltraFast Innovations（UFI）EUVアト秒多層膜ミラー」も販売しているという。
