TEL,EUV露光によるガスクラスタービーム装置発売

東京エレクトロン(TEL)は,EUV露光による極微細パターニング工程向けガスクラスタービーム装置「Acrevia 」を発売すると発表した(ニュースリリース)。

この装置は,EUV露光による極微細なパターニング工程において,ガスクラスタービーム(GCB)により線幅の加工と形状の補正を行なう装置。同社独自のGCB技術に基づき,従来では成しえなかった低ダメージ加工を実現でき,ユーザーのデバイスの微細化と歩留まり向上,EUVパターニング工程のコスト低減に貢献するという。

この装置は,EUV露光とその後に続くエッチング処理後のパターンに対し,任意の角度から直進性をもったビームを照射することで極微細な線幅加工と形状補正を行なうとしている。

また,同社の独自のソフトウエア技術LSP(Location Specific Processing)によりウエハー面内に対しビームを照射する点をスキャンする機構を新たに備え,任意の加工制御を可能とする。同時に,パターン側壁の荒れ(LER)を改善でき,歩留まり低下の原因となる露光工程の最適化および欠陥の低減が可能だという。

その他関連ニュース

  • 信越化学,半導体パッケージ基板製造装置と工法開発 2024年06月20日
  • 三菱ケミ,EUV向け感光性ポリマー生産能力を増強 2024年06月17日
  • 三井化学, EUV露光用CNTペリクルの生産設備を設置 2024年06月03日
  • ラムリサーチ,パルスレーザー成膜装置を発売 2024年04月02日
  • ギガフォトン,最新ArF液浸光源機種を出荷 2024年04月02日
  • 広島大,遮光による茶葉表皮細胞への影響を解析 2024年03月25日
  • トッパンフォトマスクとIBM,2nm向けマスク開発へ 2024年02月09日
  • 三井化学とimec,EUVで戦略的パートナーシップ締結 2023年12月19日