ギガフォトンは，新型ArF液浸露光装置用光源「GT80A」を出荷したと発表した（ニュースリリース）。
最先端デバイス製造においては，微細化と共に高い生産性が求められている。これらの最先端デバイスでは，ウエハーに転写される露光パターン，特にレジスト像のエッジが所望の場所からどれだけ離れているかを評価する尺度であるEPE（Edge Placement Error）に対する要求が求められると同時に，高い生産性を両立する必要がある。
その中で，光源に対して，EPEに直接的影響を及ぼすCD LER/LWR（Line Edge Roughness/Line Width Roughness）低減を実現することにより，量産現場でのイールド向上を実現すると共に，さらなる高生産性を提供することが求められる。
この製品は，新開発モジュールにより，発振周波数を12.5%向上させることに成功した。これにより，スペックルコントラストを「GT65A」比で36％低減し，LER/LWR（Line Edge Roughness/Line Width Roughness）をさらに低減することに貢献するという。プロセスイールドのさらなる改善を実現すると同時に，最先端ノード量産での高い生産性をサポートするとしている。
