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EUVの記事一覧

全53件中 1〜10件目を表示

  • KEK，加速器による最先端半導体露光技術の研究促進

    高エネルギー加速器研究機構（KEK）は，加速器による半導体露光技術の研究開発を促進すると発表した（ニュースリリース）。 最先端の半導体である3nmプロセスに用いられる極端紫外線（EUV）のレーザーは赤外線からのエネルギー...

    2025.06.30

  • ラムリサーチのドライレジスト，EUVに適格と評価

    米ラムリサーチは，同社のドライフォトレジスト（ドライレジスト）技術が2nmおよび2nm以下のロジック回路におけるバックエンド・オブ・ライン（BEOL）の，28nmピッチのダイレクトプリントに適格であると，半導体研究機関の...

    2025.01.16

  • DNP，EUV向け2nm世代以降のパターン解像に成功

    大日本印刷（DNP）は，半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した，2nm世代以降のロジック半導体向けフォトマスクに要求される微細なパターンの解像に成...

    2024.12.13

  • 富士フイルム，EUV用フォトレジスト／現像液を発売

    富士フイルムは，ネガ型の極端紫外線（EUV）向けフォトレジスト（EUVレジスト）および現像液（EUV現像液）の販売を開始した（ニュースリリース）。 光源に非常に短い波長の光を用いてウエハーに微細な回路パターンの描写が可能...

    2024.11.05

  • OIST，ミラー数を減らしたEUVリソグラフィーを提案

    沖縄科学技術大学院大学（OIST）の研究グループは，これまでの先端半導体製造の常識を覆すEUVリソグラフィー（極端紫外線露光技術）を提案した（ニュースリリース）。 EUVでは透過させるガラスのような透明な材料がないため，...

    2024.07.30
  • 宇大ら，EUV光源を効率化するレーザー照射法を開発

    宇大ら，EUV光源を効率化するレーザー照射法を開発

    宇都宮大学，東京大学，九州大学，理化学研究所，米パデュー大学，アイルランド国立大学ダブリン校，広島大学は，極端紫外（EUV）光源を高効率化するためのマルチレーザービーム照射法を提案し，EUV光源を高効率化できることを実験...

    2024.07.30

  • 九州大，EUV光照射と解析評価を実施する会社を設立

    九州大学は，本年4月1日に九州大学100％子会社として設立した九大OIPを通じて，EUV光照射と解析評価サービスを提供する事業会社を新たに設立すると発表した（ニュースリリース）。 我々の生活の基盤である半導体は，進化を続...

    2024.07.29

  • TEL，EUV露光によるガスクラスタービーム装置発売

    東京エレクトロン（TEL）は，EUV露光による極微細パターニング工程向けガスクラスタービーム装置「Acrevia 」を発売すると発表した（ニュースリリース）。 この装置は，EUV露光による極微細なパターニング工程において...

    2024.07.10

  • 三菱ケミ，EUV向け感光性ポリマー生産能力を増強

    三菱ケミカルグループは，フォトレジスト用感光性ポリマー「リソマックス」の生産能力を増強するため，三菱ケミカル九州事業所・福岡地区において，「ArF（フッ化アルゴン）フォトレジスト用リソマックス」および「EUV（極端紫外線...

    2024.06.17

  • 三井化学, EUV露光用CNTペリクルの生産設備を設置

    三井化学は，半導体の更なる微細化，生産性向上に不可欠な次世代の高NA，高出力EUV露光装置に対応したEUV露光用CNT（カーボンナノチューブ）ペリクルの生産設備を同社岩国大竹工場に設置することを決定した（ニュースリリース...

    2024.06.03

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