電子ビーム技術の業界団体である米イービームイニシャチブ（eBeam Initiative）は，第11回目となる年次業界有識者調査が終了したと発表した。この調査は，半導体のフォトマスク，EDA，半導体設計，半導体製造装置，半導体関連材料，製造並びに研究開発部門を縦断する，半導体のエコシステムである44の会社を代表する有識者が調査に協力した（ニュースリリース）。

それによると調査回答者の78%が，EUV露光がフォトマスクの売り上げ増加に寄与するであろうと考え，70%が2022年のマスク売上が2021年より増加すると予想している。EUV露光の普及がマルチビームマスク露光機を購入する第一の理由となっているという。

さらに，93%の回答者が，マルチビーム方式のマスク露光機の導入は今後3年間は当初予想を上回ると考えている。昨年の調査結果に比べて本年の結果では，曲線図形マスクの露光に対しては，マルチビームマスク露光機の普及の少なさが障壁になっていると考える人が少なくなっていると言える。

有識者内において曲線図形マスクの製造への確信は高い状態を保っており，回答者の76%が，最先端マスクショップは，数量は限られたとしても，そのようなマスクを何がしかの量は生産できると見ている事を示している。

今回の調査では，高NAのEUVに関する捉え方を知る事を目的として新たな質問が追加された。回答者の59%が，2026年までには高NAのEUV 露光が量産に使われるであろうと予想している。更に76%が，2027年あるいはそれ以降には1社以上で高NAのEUV露光がより広い分野で使われるようになるであろうと予想している。

その他，この調査におけるハイライトは以下の通り。
・69%の回答者が，0.33NAEUV用の量産マスク検査は，マスク製造ラインでは2023年までには露光波長での検査になるであろうと考えている。
・70%の回答者が，2024年におけるEUVマスクの納期は現時点での193nmの液浸露光用マスクの納期よりも長い状況が続くと予想している。
・90%以上の回答者が，ILT（Inverse Lithography Technology）は現在量産で適用されているいくつかのクリティカルな層で引き続き使われるであろうと考えている。
・マスク生産基盤体勢が，曲線図形を有するマスクの生産における最大の懸念事項であるとされた。
・一方，回答者の1%のみが，曲線図形マスクへの懸念は克服できないと考えているに留まりまった。