ウシオ電機の高輝度EUV光源を搭載したオランダ応用科学研究機構（The Netherlands Organization for Applied Scientific Research：TNO）のEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」が2017年3月27日に正式オープンし，EUV関連企業や機関などを対象に，光学部品やマスク・ペリクル・センサー等の各種研究・評価サービスの受付を開始した（ニュースリリース）。
TNOのEUV照射・分析用ファシリティ「EBL2」は，サンプルをハンドリングから光照射，評価まで一貫して真空環境でリアルタイム（in-situ）に計測できる。また，ウシオの高輝度・高出力EUV光源により，6インチマスクまで対応した大面積露光評価が可能で，評価期間の短縮にも貢献している。
