エドモンド・オプティクス・ジャパンは，「極端紫外（EUV）用平面ミラー」の発売を開始した（ニュースリリース）。
このミラーは，精密研磨された多層膜ミラーで，設計波長と入射角（AOI）で反射率が最大となるようデザインされている。EUV放射のビームステアリングや高調波分離用に最適という。
同ミラーは，入射角5°と45°用をラインナップし，EUV放射においてもっとも高い反射率の波長である13.5nmでほぼ理想的な反射率になる。RoHS指令に準拠し，スーパーポリッシュされた単結晶シリコン基板にコーティングが蒸着されているため，熱的安定性に優れている。
また，同ミラーは，3ÅRMS未満の面粗さをもち，入射光の散乱を大幅に低減する。多層膜の金属/半導体コーティングには，シリコン（Si）が上層のモリブデン（Mo）/Si多層膜も含まれる。平面度は632.8nmの波長でλ/10，板厚は6.35mm。入射角45°のミラーはs偏光のビームステアリングに最適。また，入射角5°のミラーは非偏光との使用に適している。
極端紫外（EUV）用平面ミラーは，コヒーレント回折イメージング（CDI）や材料科学といった新しいアプリケーションで使用されている。CDIは，10nmに近い分解能を達成可能な非接触の撮像技術で，非常に小さなナノ構造の分析に使われている。このミラーは，高調波発生（HHG）ビームの高調波セレクターとしても機能するという。
