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露光装置

露光装置の記事一覧

全62件中 11〜20件目を表示

  • キヤノン，新投影レンズ搭載の半導体露光装置を発売

    キヤノンは，半導体露光装置の新製品として，新開発の投影レンズを搭載したi線ステッパー「FPA-3030i6」を2024年9月24日に発売すると発表した（ニュースリリース）。 この製品は，高い透過率が特長のレンズ硝材を採用...

    2024.09.24

  • OIST，ミラー数を減らしたEUVリソグラフィーを提案

    沖縄科学技術大学院大学（OIST）の研究グループは，これまでの先端半導体製造の常識を覆すEUVリソグラフィー（極端紫外線露光技術）を提案した（ニュースリリース）。 EUVでは透過させるガラスのような透明な材料がないため，...

    2024.07.30

  • SCREEN，パッケージ基板向け直接描画装置を発売

    SCREEN PEソリューションズは，パッケージ基板に対応する直接描画装置の高精細モデル「Ledia Qs」を新たに開発したと発表した（ニュースリリース）。2024年6月から販売を開始する。 近年，5GやIoTインフラの...

    2024.06.03

  • キヤノン，車載用ディスプレー向けFPD露光装置発売

    キヤノンは，第6世代ガラス基板に対応したFPD（フラットパネルディスプレー）露光装置の新製品として，露光幅拡大により高い生産性を実現した「MPAsp-E1003H」を2024年6月上旬に発売すると発表した（ニュースリリー...

    2024.05.27

  • ギガフォトン，最新ArF液浸光源機種を出荷

    ギガフォトンは，新型ArF液浸露光装置用光源「GT80A」を出荷したと発表した（ニュースリリース）。 最先端デバイス製造においては，微細化と共に高い生産性が求められている。これらの最先端デバイスでは，ウエハーに転写される...

    2024.04.02

  • 三井化学とimec，EUVで戦略的パートナーシップ締結

    三井化学とimecは，2023年12月13日，極端紫外線（EUV）露光用のカーボンナノチューブ（CNT）膜を使用した次世代ペリクルの事業化に向けた戦略的パートナーシップ契約を締結した（ニュースリリース）。 この戦略的パー...

    2023.12.19
  • ウシオとAMAT，サブミクロン配線向けDLTを開発

    ウシオとAMAT，サブミクロン配線向けDLTを開発

    両社は、人工知能（AI）時代のコンピューティングに求められる先進的基板をパターニングするために特別に設計された初のデジタルリソグラフィ装置を共同で市場投入する。 ウシオ電機と米アプライド マテリアルズ（AMAT）は12月...

    2023.12.13
  • ニコン，同社最高生産性のArF液浸スキャナーを発売

    ニコン，同社最高生産性のArF液浸スキャナーを発売

    ニコンは，ArF液浸スキャナー「NSR-S636E」を2024年1月に発売する（ニュースリリース）。 より大容量のデータをいっそう高速に処理・通信するための高性能な半導体が必要不可欠となっている。 半導体の高性能化には回...

    2023.12.12

  • キヤノン，ナノインプリント半導体製造装置を発売

    キヤノンは，半導体デバイスの回路パターンの転写を担うナノインプリント半導体製造装置「FPA-1200NZ2C」を2023年10月13日に発売したと発表した（ニュースリリース）。 これまでの投影露光技術とは異なる方式でパタ...

    2023.10.18

  • ニコン，縮小投影倍率5倍i線ステッパーを発売

    ニコンは，パワー半導体，通信用半導体，MEMSなど様々なデバイスに対応し，同社の既存のi線露光装置との互換性が高い縮小投影倍率5倍i線ステッパー「NSR-2205iL1」を発売すると発表した（ニュースリリース）。 電気自...

    2023.09.05

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