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露光装置

露光装置の記事一覧

全62件中 41〜50件目を表示

  • ギガフォトン，微細化対応リソグラフィ光源を量産

    ギガフォトンは，新技術を採用した最新半導体製造ArF液浸用リソグラフィ光源「GT66A」の量産出荷を開始した（ニュースリリース）。 最先端デバイス製造は，現在，ロジックデバイスでは3nmノードのプロセス開発が開始，DRA...

    2020.12.22

  • EVG，量産対応マスクレス露光装置を発表

    半導体デバイス製造向けウエハー接合及びリソグラフィ装置を製造するオーストリアEV Group（EVG）は，同社のマスクレス露光技術MLE（Maskless Exposure）を搭載した世界初の量産プラットフォーム「LIT...

    2020.10.19

  • キヤノン，解像力1.0μmの露光装置を発売

    キヤノンは，半導体露光装置の新製品として，515×510mmまでの大型四角基板への対応と1.0μmの高い解像力を両立した後工程向けi線ステッパー「FPA-8000iW」を2020年7月上旬に発売する（ニュースリリース）。...

    2020.06.24

  • ナイトライド，半導体露光用UV-LEDを発売

    ナイトライド・セミコンダクターは，半導体露光に有効な指向角の狭い高出力な紫外線（UV-）LED「UV-LED365L-9RXT」を開発・販売開始した（ニュースリリース）。販売時期は5月20日から注文受付，デリバリー開始は...

    2020.05.22

  • ラムリサーチ，EUV露光向けの技術を発表

    米ラムリサーチは極端紫外線（EUV）リソグラフィのパターニング向けにドライレジストテクノロジーを発表した（ニュースリリース）。 同社は業界をリードする成膜とエッチ工程との組み合わせのほか，オランダASMLやベルギーime...

    2020.03.03

  • ギガフォトン，露光用ArF／KrFレーザーを発表

    ギガフォトンは，2020年，新技術を採用した最新半導体製造リソグラフィ用光源，ArF液浸用レーザー「GT66A」とKrFレーザー「G60K」の2機種を，新製品としてラインナップすると発表した（ニュースリリース）。 近年の...

    2020.02.25

  • インスペック，ロール・トゥ・ロール露光機を発売

    インスペックは，世界初となる長尺FPC（フレキシブル基板）をシームレスに連続露光可能なロール・トゥ・ロール型シームレスレーザー直描露光機（R-LDI）の基本機能の開発が完了したことにより，R-LDIの開発・製造・販売を新...

    2019.12.03

  • キヤノン，露光装置で経団連会長賞を受賞

    キヤノンは，発明協会が主催する令和元年度全国発明表彰において，「位置合わせ速度と精度を両立させたディスプレイ用露光装置の発明」で，「日本経済団体連合会会長賞」を受賞した（ニュースリリース）。 全国発明表彰は，日本の科学技...

    2019.05.24

  • ウシオ，投影露光装置の生産能力を増強

    ウシオ電機は最先端ICパッケージ基板，フレキシブル基板の新たな需要増に対応するため，分割投影露光装置（UX-5シリーズ）及びロール搬送投影露光装置（UFXシリーズ）の生産能力増強の設備投資を決定した（ニュースリリース）。...

    2019.05.10

  • ニコン，ASMLとZeissとの特許訴訟で和解

    ニコンは，2019年1月23日（日本時間），オランダASML Holding N.V.（ASML）および独Carl Zeiss SMT GmbH（Zeiss）と、露光装置およびデジタルカメラの特許に対する全ての訴訟手続の...

    2019.01.30

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