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露光装置

露光装置の記事一覧

全62件中 51〜60件目を表示

  • JST，高性能EUV露光モジュール開発を成功と認定

    科学技術振興機構（JST）は，産学共同実用化開発事業（NexTEP）の開発課題「リソグラフィ用レジストの高性能化モジュール」の開発結果を成功と認定した（ニュースリリース）。 この開発課題は，大阪大学の研究グループらの研究...

    2018.12.05

  • SCREEN，プリント基板用高精細直接描画装置を開発

    SCREEN PE ソリューションズは，独自開発の高精細露光エンジンを搭載したプリント基板回路パターン用直接描画装置「LANZAN」を開発したと発表した（ニュースリリース）。 近年，スマートフォン市場では高機能化が加速し...

    2018.06.05
  • 【OPIE’18】ネオアーク，マスクレス露光装置を展示

    【OPIE’18】ネオアーク，マスクレス露光装置を展示

    ネオアークは，マスクレスで露光による微細加工が可能なマスクレス露光装置「PALET DDB-701」シリーズを，光技術総合展示会「OPIE’18」（4月25日～27日，パシフィコ横浜）に出展している。 この製...

    2018.04.25

  • ニコン，高精細大型FPD向け露光装置を発売

    ニコンは，FPD露光装置の新製品「FX-103S」「FX-103SH」の2モデルを発売した（ニュースリリース）。2018年3月期3Qから販売を開始している。 中小型高精細パネルの生産に適した，第6世代プレートサイズ対応露...

    2018.02.28

  • ギガフォトン，露光装置のモニタリングプラットフォームを提供

    ギガフォトンは，半導体露光装置の稼働モニタリングと解析を行なうオープン・プラットフォーム「FABSCAPE™」を3月より提供すると発表した（ニュースリリース）。 多くの半導体メーカーにとって，様々な装置から出力される大量...

    2018.02.28

  • 旭硝子，EUV用フォトマスク原版事業を大幅増強

    旭硝子は，EUV露光用フォトマスクブランクスの供給体制を，グループ会社であるAGCエレクトロニクスにおいて，本年より大幅に増強する（ニュースリリース）。 電子機器の高機能・小型化が進むにつれ，半導体チップの計算処理の高速...

    2018.02.06

  • ウシオ子会社，露光装置事業を買収

    ウシオ電機子会社のアドテックエンジニアリングは，2018年1月19日付で，ビアメカニクスとの間で吸収分割契約を締結した（ニュースリリース）｡この契約により，アドテックエンジニアリングはビアメカニクスの露光装置事業を201...

    2018.02.06

  • ギガフォトン，エキシマレーザーをSK hynixに納入

    ギガフォトンは，韓国のメモリーチップメーカーSK hynix社に向けて，旧機種からのアップグレード用として，最新のリソグラフィ装置用エキシマレーザーを出荷したと発表した（ニュースリリース）。 半導体需要が世界的に高まる中...

    2017.11.21

  • ギガフォトン，スペクトル幅制御技術 「hMPL」を開発

    ギガフォトンは，最新の光学設計製造技術（=Cutting Edge Solution）を導入した，スペクトル幅制御技術 「hMPL」を開発したと発表した（ニュースリリース）。hMPLは，すでにチップメーカーでの実機評価を...

    2017.09.12

  • ニコン，露光技術でAMSLらを提訴

    ニコンは同社の特許侵害行為の停止を求め，半導体露光装置を製造販売するオランダのASML Holding N.V. およびその関連会社（以下ASML）と，ASMLに光学部品を供給する，ドイツのCarl Zeiss SMT ...

    2017.04.25

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