2020年02月25日

ギガフォトン，露光用ArF／KrFレーザーを発表

著者： higa

ギガフォトンは，2020年，新技術を採用した最新半導体製造リソグラフィ用光源，ArF液浸用レーザー「GT66A」とKrFレーザー「G60K」の2機種を，新製品としてラインナップすると発表した（ニュースリリース）。

近年のIoTの普及やAIの実用化による半導体用途拡大に伴い，半導体チップには通信速度のさらなる高速化とより大量のデータ処理が求められている。

特に2020年は5G（第5世代移動通信）の一般向けサービスが開始され，サブ10nmノードの小型・高速・低消費電力のロジックICや，爆発的に増加するデータを保存する大容量メモリチップが必要となる。

新型ArF液浸用レーザー「GT66A」は，新開発の光学モジュールを搭載することで空間的なコヒーレンスを低減し，露光面でのビーム均一性を改善することに成功した。

また新型KrF用レーザー「G60K」は，約15年ぶりにフルモデルチェンジをし，新型電源ユニットを導入することで，従来比1.5倍の出力を可能にした。

同社は今後も，新技術を搭載した新製品ラインナップで，次世代の産業界の発展に貢献していくとしている。

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