ギガフォトン,露光用ArF/KrFレーザーを発表

ギガフォトンは,2020年,新技術を採用した最新半導体製造リソグラフィ用光源,ArF液浸用レーザー「GT66A」とKrFレーザー「G60K」の2機種を,新製品としてラインナップすると発表した(ニュースリリース)。

近年のIoTの普及やAIの実用化による半導体用途拡大に伴い,半導体チップには通信速度のさらなる高速化とより大量のデータ処理が求められている。

特に2020年は5G(第5世代移動通信)の一般向けサービスが開始され,サブ10nmノードの小型・高速・低消費電力のロジックICや,爆発的に増加するデータを保存する大容量メモリチップが必要となる。

新型ArF液浸用レーザー「GT66A」は,新開発の光学モジュールを搭載することで空間的なコヒーレンスを低減し,露光面でのビーム均一性を改善することに成功した。

また新型KrF用レーザー「G60K」は,約15年ぶりにフルモデルチェンジをし,新型電源ユニットを導入することで,従来比1.5倍の出力を可能にした。

同社は今後も,新技術を搭載した新製品ラインナップで,次世代の産業界の発展に貢献していくとしている。

その他関連ニュース

  • 大興製作所,SPOT光源の波長ラインナップを強化 2024年06月03日
  • SCREEN,パッケージ基板向け直接描画装置を発売 2024年06月03日
  • キヤノン,車載用ディスプレー向けFPD露光装置発売 2024年05月27日
  • 【解説】青色半導体レーザーの高出力化が進展も,実用化にはビーム制御も重要 2024年05月22日
  • ギガフォトン,最新ArF液浸光源機種を出荷 2024年04月02日
  • NVIDIA,計算機リソグラフィを生成AIで大幅高速化 2024年03月21日
  • 東工大ら,ダイヤモンド量子光源から自然幅発光観測 2024年02月16日
  • 古河電工,ラマン増幅器用励起光源にU帯用途を開発 2024年01月26日