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リソグラフィ

リソグラフィの記事一覧

全26件中 11〜20件目を表示

  • ギガフォトン，露光用ArF／KrFレーザーを発表

    ギガフォトンは，2020年，新技術を採用した最新半導体製造リソグラフィ用光源，ArF液浸用レーザー「GT66A」とKrFレーザー「G60K」の2機種を，新製品としてラインナップすると発表した（ニュースリリース）。 近年の...

    2020.02.25

  • ギガフォトン，新型ArFドライ光源を出荷

    2019年9月17日ギガフォトンは，新型リソグラフィ用光源，ArFドライ「GT45A」を8月に出荷したことを発表した（ニュースリリース）。 最先端半導体製造プロセスでは，テクノロジー・ノード10/7nmという微細なプロセ...

    2019.09.19

  • ウシオ，EUV光源事業をブランド化

    ウシオ電機は，従来より研究・開発に取り組んできたEUV光源事業をさらに推し進めるため，開発から製造，運用，アフターサービスに至るEUV光源事業のブランド化を策定し，ブランド名「TinPhoenix（ティンフェニックス）」...

    2019.09.10

  • EV Group，新マスクレス露光技術を発表

    オーストリアEV Groupは，新しいリソグラフィ技術「MLETM（マスクレス露光）」を発表した（会社HP）。 先端パッケージング，MEMS，バイオメディカルおよび高密度プリント回路基板（PCB）等のアプリケーション向け...

    2019.08.22

  • ウシオのEUV光源，量産プロセス向けに初検収

    ウシオ電機（ウシオ）は，検査装置メーカーより受注している複数のEUVリソグラフィマスク検査装置用EUV光源（EUV光源）のうち，量産プロセス向けEUV光源が初めて検収されたと発表した（ニュースリリース）。 EUVリソグラ...

    2019.07.17

  • 三井化学，ASMLとEUVパーツでライセンス契約

    三井化学は，オランダASMLと，EUVペリクル事業のライセンス契約を締結した（ニュースリリース）。 同社は，露光工程の防塵カバー「ペリクル」を1984年に発売している。ペリクスはフォトマスクをクリーンに保ち，半導体の生産...

    2019.06.04

  • ウシオ，CNF透明シート上へ微細パターニングに成功

    ウシオ電機と王子ホールディングス（王子HD）は，ウシオ製プリンタブルパターニング用光源ユニット 「VUVアライナー」を用いて，王子HDが開発するセルロースナノファイバー透明シート（CNF透明シート）「アウロ・ヴェール」上...

    2019.05.21

  • ギガフォトン鈴木氏ら，SPIEフェローに選出

    ギガフォトンは，国際光工学会（The International Society for Optics and Photonics：SPIE）において，同社研究部技術アドバイザである鈴木章義氏が “SPIE ...

    2019.02.13

  • 富士フイルム子会社，レーザー直接描画装置を導入

    マスクレスリソグラフィーシステムを製造する独ハイデルベルグ・インストルメンツは，レーザー直接描画装置「DWL 66+」を富士フイルムメディアクレストに納入したと発表した（ニュースリリース）。 富士フイルムメディアクレスト...

    2018.12.03

  • ウシオ，光による微細加工サービスを開始

    ウシオ電機は，同社が保有する光源や光学，リソグラフィなどの光技術を活用した「微細加工サービス」を，2017年11月1日より開始した（ニュースリリース）。 このサービスにおける微細加工の受託，および販売する機能部品は，11...

    2017.11.08

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