2019年9月17日ギガフォトンは，新型リソグラフィ用光源，ArFドライ「GT45A」を8月に出荷したことを発表した（ニュースリリース）。
最先端半導体製造プロセスでは，テクノロジー・ノード10/7nmという微細なプロセスが主流となり，今後もEUV光源の導入による7nm以下のさらなる微細化が注目されている。
その一方で，IoTの普及に伴い主に14-65nmといった技術的に成熟されたノードにおいて需要が高まり，新規投資による生産能力の拡大と，既存工場のアップグレードで対応する事が期待されていることから，ドライ露光装置のさらなる改善による，露光装置における高生産性と高い稼働率（Availability）が不可欠となっている。
この製品は，すでに生産現場で導入実績のある，以下のArF液侵用光源技術を適用させることで，ユーザーの幅広い期待に応える機能拡張性を備えるとしている。
・主要モジュールの寿命を従来品比で最大50%向上させ，光源のさらなる高稼働と装置稼動率を向上。
・最大で90Wまで高出力化することで，さらなる生産性向上が可能。
・4kHz~6kHzの繰り返し周波数が対応可能となり，露光機の要求に幅広く対応し，露光光学性能の向上に貢献。
