三井化学,ASMLとEUVパーツでライセンス契約

三井化学は,オランダASMLと,EUVペリクル事業のライセンス契約を締結した(ニュースリリース)。

同社は,露光工程の防塵カバー「ペリクル」を1984年に発売している。ペリクスはフォトマスクをクリーンに保ち,半導体の生産性を向上させるもの。ペリクルを使用することで,異物による半導体ウェハーの製造不良を防ぐ。

5Gに代表されるデータの超高速化,高機能化のニーズの高まりを受け,さらなる半導体の微細化が求められているが,そのためには,従来の露光工程とは全く異なる技術導入が必要となる。同社ではそれを実現するのがEUV露光機で,その防塵カバーのEUVペリクルについて,今回ASMLからライセンスを受け,生産権及び生産販売権を取得した。

EUVペリクルの生産の新たな設備は岩国大竹工場内に建設,2020年第2四半期に完工予定としている。

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