三井化学は，オランダASMLと，EUVペリクル事業のライセンス契約を締結した（ニュースリリース）。

同社は，露光工程の防塵カバー「ペリクル」を1984年に発売している。ペリクスはフォトマスクをクリーンに保ち，半導体の生産性を向上させるもの。ペリクルを使用することで，異物による半導体ウェハーの製造不良を防ぐ。

5Gに代表されるデータの超高速化，高機能化のニーズの高まりを受け，さらなる半導体の微細化が求められているが，そのためには，従来の露光工程とは全く異なる技術導入が必要となる。同社ではそれを実現するのがEUV露光機で，その防塵カバーのEUVペリクルについて，今回ASMLからライセンスを受け，生産権及び生産販売権を取得した。

EUVペリクルの生産の新たな設備は岩国大竹工場内に建設，2020年第2四半期に完工予定としている。