マスクレスリソグラフィーシステムを製造する独ハイデルベルグ・インストルメンツは，レーザー直接描画装置「DWL 66+」を富士フイルムメディアクレストに納入したと発表した（ニュースリリース）。
富士フイルムメディアクレストは，富士フイルムグループや一般企業・大学などに微細加工製品（原盤，複製型，試作及び量産）を提供しており，今回納入した製品は，同社が受託する様々な微細形状の加工に使用される。これまでの手法を補完しつつ更なる微細化，立体構造化や短納期の要求に応えるために導入されるという。
この装置は200以上の研究機関と一般企業に導入されている主要なリソグラフィー装置で，今回導入されるシステムにはアドレスグリッド5nmを使用して最小線幅300nmの描画を可能とするオプションが搭載されており，研究開発市場セグメントで競争力のあるレーザーリソグラフィー製品を上回る性能を実現しているとする。
また，高度なグレースケール機能を搭載し，マイクロ光学部品，バイオデバイス，その他グレースケールアプリケーションで使用される複雑なトポグラフィを作成する。このシステムはレンズや球面基板に直接描画できるオプションを備えた，日本の顧客に納入される初めての装置となるという。
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