ギガフォトン,EUV集光ミラー反射率低下量を更新 ギガフォトンは,現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源について,最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源にて集光ミラー反射率低下量-0.4%/Bplsを達成し,ボトルネック解消へ大... ニュース 2017.09.12
ギガフォトン,スペクトル幅制御技術 「hMPL」を開発 ギガフォトンは,最新の光学設計製造技術(=Cutting Edge Solution)を導入した,スペクトル幅制御技術 「hMPL」を開発したと発表した(ニュースリリース)。hMPLは,すでにチップメーカーでの実機評価を... ニュース 光関連技術 新製品 2017.09.12
ギガフォトン,EUV光源の稼働率80%以上を確認 ギガフォトンは,現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源について,最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源にて,量産実現レベルである稼働率(availability)80%以上のポテ... ニュース 光関連技術 研究開発 2017.07.12
ギガフォトン,集光ミラーの寿命延長効果を実証 ギガフォトンは,現在開発中のEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ(LPP)光源について,新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の助成プログラムの成果である,最先端半導体量産ラインでの稼働を想定したパイロット光源... ニュース 光関連技術 研究開発 2017.03.01
北大ら,フォトリソの感度を上げる添加剤を発見 北海道大学と大阪大学は,ナノ構造体形成についての研究の成果として,半導体製造用材料であるレジスト材料の加工性能を大幅に改善する方法の開発に成功した(ニュースリリース)。 現在のフォトリソグラフィプロセスでは,化学増幅型レ... ニュース 光関連技術 研究開発 2016.12.21
ギガフォトン,成長戦略を発表 ギガフォトンは,設立16周年目に当たる2016年度を第2創業期と位置付け,次なる成長戦略を発表した(ニュースリリース)。 2000年8月1日に設立したギガフォトンは,昨年設立15周年を迎えた。創業当初は10%前後だったD... ニュース ビジネス 光関連技術 2016.11.14