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半導体

半導体の記事一覧

全316件中 151〜160件目を表示

  • Q3/2021のSiウエハー出荷面積，過去最高に

    米SEMIは，11月4日（米国時間），シリコンウエハー業界の分析結果をもとに，2021年第3四半期（歴年）の世界シリコンウエハー出荷面積が前期比3.3%増の36億4,900万平方インチとなり，今年第2四半期の過去最高面積...

    2021.11.10

  • ギガフォトン，最先端液浸露光光源が本格稼働

    ギガフォトンは，最先端ArF液浸リソグラフィ光源「GT66A」が，世界の半導体メーカーで本格的に稼働していることを発表した（ニュースリリース）。 昨今，デジタル機器やクラウド設備が世界規模で急速に増加し，これらに使われる...

    2021.11.02

  • 筑波大ら，光デバイスにも適した新規半導体を生成

    筑波大学，東京工業大学，高知工科大学，東京農工大学，名古屋大学，高エネルギー加速器研究機構（KEK）は，菱面体硫化ホウ素という層状の物質の表面を剥離することにより，硫化ホウ素シートの生成に成功した（ニュースリリース）。 ...

    2021.10.28

  • 名大，AI応用溶液成長法で6インチSiC基板作製

    名古屋大学の研究グループは，直径6インチのSiC単結晶基板を，高品質な結晶成長が可能である「溶液成長法」を用いて作製することに，世界で初めて成功した（ニュースリリース）。 現在のパワー半導体の主流はSiで作製されているが...

    2021.10.27

  • ニコン，半導体デバイス用ArF液浸スキャナー開発

    ニコンは，高い重ね合わせ精度と高スループットを実現し，最先端の半導体デバイス製造に対応するArF液浸スキャナー「NSR-S636E」の開発を進め，2023年の発売を予定している（ニュースリリース）。 DX（デジタルトラン...

    2021.10.20

  • イービーム，フォトマスク売上高増加を予測

    イービームイニシアチブは，フォトマスク，EDA，半導体設計，半導体製造装置，半導体関連材料分野の製造並びに研究開発部門を縦断する半導体のエコシステムにおける，年次業界識者調査を完了したと発表した（ニュースリリース）。 そ...

    2021.10.05

  • 2027年，ワイドバンドギャップ半導体市場325億円

    矢野経済研究所は，世界のワイドバンドギャップ半導体単結晶市場を調査し，製品セグメント別の動向，参入企業動向，将来展望を明らかにした（ニュースリリース）。 それによると，パワーデバイスを中心に採用が進んでいるワイドバンドギ...

    2021.09.29

  • 阪大ら，次世代半導体の新規価電子制御法を提案

    大阪大学，東北大学，東京大学は，第一原理計算手法を用い，単極性のため低抵抗p型化が難しかったワイドバンドギャップ半導体を低抵抗p型化するための磁性元素を用いた新しい価電子制御法を提案した（ニュースリリース）。 半導体素子...

    2021.08.26

  • 2021年Q2シリコンウエハー出荷面積，前期比6%増

    米SEMIは，7月27日（米国時間），2021年第2四半期（歴年）の世界シリコンウエハー出荷面積が前期比6%増の35億3,400万平方インチとなり，今年第1四半期の過去最高面積を塗り替えたと発表した（ニュースリリース）。...

    2021.07.29

  • TEL，次世代EUV露光装置に塗布現像装置を導入

    東京エレクトロン（TEL）は，蘭imec-ASML joint high NA EUV research laboratory（imec-ASML，共同高NA EUV研究所）にて，2023年より稼動予定の次世代高NA E...

    2021.06.11

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