富士フイルムは、イメージセンサー用カラーフィルター材料「Wave Control Mosaic」の新製品として、世界で初めてKrF露光に対応した材料を発売した（ニュースリリース）。
イメージセンサーはスマートフォンや車載カメラ、監視カメラ、AR/VR機器などに搭載され、市場拡大とともに高画質化要求が一段と強まっている。高画質化には画素の微細化が不可欠だが、画素が小さくなるほど取り込める光量が減り、感度低下を招きやすいという課題があった。
新製品は、フォトリソグラフィー工程で用いられるKrF（248nm）レーザー露光に適合し、従来のi線露光では難しかった微細画素形成を可能にする。同社は写真フィルムで培った分子設計・有機合成技術を活用し、KrF露光向け添加剤と高耐熱・高耐光性染料を新規開発した。
顔料に新染料を組み合わせる独自処方で光透過率を高め、微細化による光量低下を補うことで、センサーの微細化と高感度化を同時に実現するという。
また同社は、今回のPFASフリー化技術を「Wave Control Mosaic」シリーズやフォトレジストなど半導体材料全体へ展開し、環境負荷低減を進める方針である。今後もイメージセンサーの高画質化や赤外領域対応材料の開発を通じ、市場拡大に貢献していくとしている。
