半導体フォトマスク市場,2019年には40億ドルに

SEMIは4月9日(米国時間),2017年の半導体フォトマスクの世界市場が前年比13%増の37億5,000万ドルとなり,2019年には40億ドルに達することが予測されると発表した(ニュースリリース)。

フォトマスク市場は,2018年には5%,2019年には4%の成長がそれぞれ見込まれる。フォトマスク市場をけん引しているのは,45nm未満の微細プロセスであり,地域的には半導体の製造が拡大するアジア太平洋地域。台湾が7年連続で最大市場となり,今回の予測の範囲においても最大市場となることが予測されるとしている。また韓国が2位に順位を上げた。

37億5,000万ドルのフォトマスク販売額は,ウエハプロセス材料市場の13%を占め,シリコンウエハとガスに次ぐ大きさとなる。過去との比較では,2003年のウエハプロセス材料市場に占めるフォトマスクの比率は18%だった。

内製マスクショップの重要性はさらに高まり,2011年から2012年にかけての集中的な設備投資によって,内製マスクショップは外販マスクサプライヤに対して市場シェアの拡大を続けている。全フォトマスク市場における内製マスクショップのシェアは,2016年の63%から2017年には65%に拡大した。2003年のフォトマスク市場に占める内製マスクショップの比率は31%だったとしている。

その他関連ニュース

  • ニコン,寸法を測定できる画像測定システムを発売 2024年12月05日
  • 名大,高錫組成14族ゲルマニウム錫単結晶薄膜を創製
    名大,高錫組成14族ゲルマニウム錫単結晶薄膜を創製 2024年11月29日
  • 日立ハイテクら,高分解能Laser-PEEMを半導体応用
    日立ハイテクら,高分解能Laser-PEEMを半導体応用 2024年11月12日
  • 富士フイルム,EUV用フォトレジスト/現像液を発売 2024年11月05日
  • シリコンウエハー世界出荷面積,2025年に急回復へ 2024年10月24日
  • ニコン,解像度1.0μmのデジタル露光装置を開発 2024年10月22日
  • キヤノン,新投影レンズ搭載の半導体露光装置を発売 2024年09月24日
  • 東大,半導体レジストの現像前超高速検査技術を開発 
    東大,半導体レジストの現像前超高速検査技術を開発  2024年09月03日