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  • タグ : フォトマスク

フォトマスク

フォトマスクの記事一覧

全16件中 1〜10件目を表示

  • TOPPANのフォトマスク子会社，上場に向け準備中

    TOPPANホールディングスとテクセンドフォトマスクは，テクセンドフォトマスクの株式上場に向けて準備を進めていることを発表した（ニュースリリース）。 テクセンドフォトマスクは，半導体用フォトマスクの製造・販売会社として，...

    2025.05.14

  • 東大，フォトマスク1枚のAIプロセッサ作製法を開発

    東京大学の研究グループは，半導体製造において大部分を占めるフォトマスクの開発コストを1/40に削減しつつ，低電力性能を両立した新規ストラクチャードASIC型AIプロセッサを開発した（ニュースリリース）。 スマートウォッチ...

    2025.02.26

  • DNP，EUV向け2nm世代以降のパターン解像に成功

    大日本印刷（DNP）は，半導体製造の最先端プロセスのEUV（Extreme Ultra-Violet：極端紫外線）リソグラフィに対応した，2nm世代以降のロジック半導体向けフォトマスクに要求される微細なパターンの解像に成...

    2024.12.13

  • 三井化学, EUV露光用CNTペリクルの生産設備を設置

    三井化学は，半導体の更なる微細化，生産性向上に不可欠な次世代の高NA，高出力EUV露光装置に対応したEUV露光用CNT（カーボンナノチューブ）ペリクルの生産設備を同社岩国大竹工場に設置することを決定した（ニュースリリース...

    2024.06.03

  • ブイテク，半導体フォトマスク検査装置を初出荷

    ブイ・テクノロジーは，半導体用フォトマスクレジストレーション装置「PMARS」の1号機を出荷したと発表した（ニュースリリース）。 交通（モビリティー）の電動化の進展等を背景に，パワー系のICやディスクリート等の半導体につ...

    2024.02.09

  • トッパンフォトマスクとIBM，2nm向けマスク開発へ

    トッパンフォトマスクは，次世代半導体向けの高NA EUVを含む，EUVリソグラフィを使用した2nmロジック半導体プロセスノード対応のフォトマスクに関する共同研究開発契約を，米IBMと締結したと発表した（ニュースリリース）...

    2024.02.09
  • DNP，3nm相当EUVフォトマスク製造プロセス開発

    DNP，3nm相当EUVフォトマスク製造プロセス開発

    大日本印刷（DNP）は，半導体製造の最先端プロセスのEUVリソグラフィに対応した，3nm相当のフォトマスク製造プロセスを開発した（ニュースリリース）。 近年，EUV光源を用いるEUVリソグラフィの技術が確立し，2023年...

    2023.12.13

  • 三井化学，旭化成のフォトマスク関連事業を譲受

    三井化学は3月31日，旭化成が日本国内外で営むフォトマスク用ペリクル製品の製造，開発，販売に関する事業とその製造を請負う旭化成の連結子会社である旭化成EMSの全株式を，2023年7月1日（予定）に，旭化成から吸収分割によ...

    2023.04.04

  • 2026年半導体材料市場，21年比3割増の444億ドル

    富士経済は，半導体製造工程で使用される主要な材料の世界市場を調査し，その結果を「2022年 半導体材料市場の現状と将来展望」にまとめた（ニュースリリース）。 それによると，2021年は，半導体不足が深刻化し，様々なエレク...

    2022.06.07

  • 凸版，フォトマスク事業の新会社を設立

    凸版印刷は，会社分割により半導体用フォトマスク事業を行う新会社「株式会社トッパンフォトマスク」を設立し，独立系投資ファンドのインテグラルを出資パートナーとして，株式譲渡契約を締結したと発表した（ニュースリリース）。 世界...

    2022.04.05

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