TOPPANのフォトマスク子会社,上場に向け準備中

TOPPANホールディングスとテクセンドフォトマスクは,テクセンドフォトマスクの株式上場に向けて準備を進めていることを発表した(ニュースリリース)。

テクセンドフォトマスクは,半導体用フォトマスクの製造・販売会社として,凸版印刷(現TOPPANホールディングス)からの会社分割により設立され,2022年4月より営業を開始している,フォトマスクの外販企業。ナノインプリントモールドを始めとする微細加工製品にも事業領域を拡大している。

株式上場の準備にあたっては,TOPPANホールディングス全体の資本効率,ガバナンスの観点の状況を考慮しつつ,TOPPANホールディングス及びテクセンドフォトマスク双方の成長促進及び企業価値最大化を企図し,将来的には持分法適用関連会社への移行を目指して検討していくという。

なお,現時点での上場時期は未定としている。

キーワード:

関連記事

  • MKS,社名をMKS Inc. に変更すると発表

    米MKSは,2025年5月16日に株主が社名を「MKS Inc.」に変更することを承認し,この変更が有効になったことを発表した(ニュースリリース)。 1961年に産業機器メーカーとして設立されて以来,同社は研究開発への投…

    2025.05.21
  • 東大,フォトマスク1枚のAIプロセッサ作製法を開発

    東京大学の研究グループは,半導体製造において大部分を占めるフォトマスクの開発コストを1/40に削減しつつ,低電力性能を両立した新規ストラクチャードASIC型AIプロセッサを開発した(ニュースリリース)。 スマートウォッチ…

    2025.02.26
  • DNP,EUV向け2nm世代以降のパターン解像に成功

    大日本印刷(DNP)は,半導体製造の最先端プロセスのEUV(Extreme Ultra-Violet:極端紫外線)リソグラフィに対応した,2nm世代以降のロジック半導体向けフォトマスクに要求される微細なパターンの解像に成…

    2024.12.13
  • 三井化学, EUV露光用CNTペリクルの生産設備を設置

    三井化学は,半導体の更なる微細化,生産性向上に不可欠な次世代の高NA,高出力EUV露光装置に対応したEUV露光用CNT(カーボンナノチューブ)ペリクルの生産設備を同社岩国大竹工場に設置することを決定した(ニュースリリース…

    2024.06.03
  • ブイテク,半導体フォトマスク検査装置を初出荷

    ブイ・テクノロジーは,半導体用フォトマスクレジストレーション装置「PMARS」の1号機を出荷したと発表した(ニュースリリース)。 交通(モビリティー)の電動化の進展等を背景に,パワー系のICやディスクリート等の半導体につ…

    2024.02.09

新着ニュース

人気記事

編集部おすすめ

  • オプトキャリア