光技術総合展示会「interOpto-光とレーザーの科学技術フェア」で，オプトシリウス【光学薄膜フェア No. E-36】は，光学式膜厚測定システム「SKOP」を紹介している。
光学製品を扱う上で薄膜の膜厚測定は重要な項目となるが，その測定対象や条件は案件毎に異なるため，様々なパラメータや測定法にフレキシブルに対応できる装置が求められる。
今回同社が紹介している新製品は，光学薄膜の分光反射率を測定し，そのスペクトルを解析することで薄膜の厚みを測定する。基板上の薄膜はエタロンとして作用し，反射スペクトルに干渉パターンを引き起こす。これを専用のソフトウェアで解析することにより，膜の厚みに換算する。
標準品の測定可能膜厚範囲（nd換算)は1.5～70.0μm，測定スポット径は3.6mm，測定可能層数は単層となっているが，いずれもカスタム可能だという。
用途に応じて標準の分光器「Ocean SR」からの変更や，薄膜に対応した紫外-可視光源への置き換え，WDを延長しつつ，測定スポットを維持するためのレンズ系などのカスタムのほか，ソフトウェアも，インライン測定，制御機器との通信を含む自動化などに対応する。価格は1,980,000円（税別）。
