【解説】環境配慮を意識した技術・製品開発へ―GaN成長技術にも有毒ガス排除の動き 名古屋大学の研究グループは,従来工業的に使われていたMOCVD法に代わる,プラズマを用いたGaN半導体の新しい結晶成長法を開発した(ニュースリリース)。 GaN半導体は従来,MOCVD法で成長されていたが,有毒なアンモニ... Editor's Eye ニュース 研究開発 2024.06.04
東大ら,DUVレーザーで半導体基板に3μm穴あけ加工 東京大学,三菱電機,味の素ファインテクノ,スペクトロニクスは,次世代の半導体製造「後工程」に必要な,パッケージ基板への3μmの極微細レーザー穴あけ加工技術を開発した(ニュースリリース)。 近年,EUV露光技術の発展により... PICK UP ニュース 光関連技術 研究開発 2024.05.31
AnsysとTSMC,最先端半導体向けソフトで協業 米Ansysと台湾TSMCは,TSMCのCompact Universal Photonic Engines(COUPE)向けマルチフィジックスソフトウェアに関する協業を発表した(ニュースリリース)。 この協業は,半導体... ニュース ビジネス 光関連技術 市場・政策 新製品 2024.05.14
日清紡マイクロ,琵琶湖半導体構想に参画 日清紡マイクロデバイスは,新規次世代半導体材料を使用するパワー半導体による省エネ・グリーン化を目指すPatentixが推進している企業間連携を目的としたコンソーシアム,琵琶湖半導体構想(案)に参画すると発表した(ニュース... ニュース ビジネス 2024.03.29
SSS,タイの事業所で光半導体製造を開始 ソニーセミコンダクタソリューションズ(SSS)は,タイ(バンカディ)の半導体製造事業所の敷地内に建設を進めてきた新棟において,2024年2月より生産ラインの稼働を開始し,2024年3月28日に竣工式を開催した(ニュースリ... ニュース ビジネス 光関連技術 2024.03.29
NVIDIA,計算機リソグラフィを生成AIで大幅高速化 NVIDIAは,台湾TSMCと米Synopsysが,NVIDIAのコンピュテーショナル リソグラフィ(計算機リソグラフィ)プラットフォームを使用して次世代半導体チップの生産を開始すると発表した(ニュースリリース)。 TS... ニュース 光関連技術 新製品 2024.03.21
ブイテク,半導体フォトマスク検査装置を初出荷 ブイ・テクノロジーは,半導体用フォトマスクレジストレーション装置「PMARS」の1号機を出荷したと発表した(ニュースリリース)。 交通(モビリティー)の電動化の進展等を背景に,パワー系のICやディスクリート等の半導体につ... ニュース 光関連技術 新製品 2024.02.09
トッパンフォトマスクとIBM,2nm向けマスク開発へ トッパンフォトマスクは,次世代半導体向けの高NA EUVを含む,EUVリソグラフィを使用した2nmロジック半導体プロセスノード対応のフォトマスクに関する共同研究開発契約を,米IBMと締結したと発表した(ニュースリリース)... ニュース ビジネス 光関連技術 新製品 2024.02.09
SCREEN,基板向けAI検査計測ソリューションを設立 SCREENホールディングス,SCREENセミコンダクターソリューションズ,SCREEN PEソリューションズ,SCREENアドバンストシステムソリューションズは,半導体ウエハーやプリント基板向けの最新AI検査計測ソリュ... ニュース 光関連技術 新製品 2024.01.29
PDSら,ノーマリ・オフ ダイヤモンドMOSFET開発 次世代ダイヤモンド半導体パワーデバイス・高周波デバイスの研究開発を行なうPDSと早稲田大学は,チャネル移動度(ホール)150cm2/V·s,閾値電圧3~5V程度の酸化シリコン終端(C-Si-O終端)構造によるノーマリ・オ... ニュース 研究開発 2024.01.19