昭和電工は，電子材料用高純度ガス事業強化のため，上海にある製造拠点，上海昭和電子化学材料有限公司（SSE）の隣接地に第二工場用地を取得し，高純度N₂O（亜酸化窒素）および高純度C₄F₈（オクタフルオロシクロブタン）の製造設備と，高圧ガス危険物倉庫を建設することを決定した（ニュースリリース）。

高純度N₂Oは主に半導体やディスプレー製造時の酸化膜の酸素源として，高純度C₄F₈は特殊ガスで，主にその酸化膜の微細加工（エッチング）などに使用される。第5世代移動通信（5G）など情報通信分野の発展と中国政府による産業育成政策により，中国においては今後も半導体およびディスプレー市場（有機ELテレビ等）の拡大が見込まれる。

同社は現在，高純度N₂Oは川崎事業所と韓国で，高純度C₄F₈は川崎事業所と上海（SSE第一工場）で生産しているが，拡大する市場に対し安定供給などの対応力を高めるため，“地産地消”施策をさらに進めるという。

また中国において年々化学品への規制が強化される中，中国上海に同社所有の高圧ガス危険物倉庫を確保・拡充することは，サプライチェーンの強化，競争力の向上に大きく寄与するとしている。

SSE第二工場の概要は以下の通り。
・面積：約10,000平米
・建設予定設備
高純度N₂O年産能力：1,000トン
高純度C₄F₈年産能力：600トン
高圧ガス危険物倉庫
・稼働開始予定：2021年下半期

また，半導体市場は，台湾でも同様に拡大が見込まれるため，同社の現地製造子会社「台湾昭和化学品製造股份有限公司」においても高純度C₄F₈年産150トンの製造設備を新設する（2020年春稼働予定）。今回の投資額は，上海・台湾を合わせ，約30億円となる。