2026年度第3回 フォトニックデバイス・応用技術研究会

日時:
会場:
NTT 厚木研究開発センタ 1F プレゼンルーム
テーマ『シリコンフォトニクス・異種材料集積技術』
 ・13:05 ~「シリコンフォトニクスファウンドリーの現状と展望」
            タワー パートナーズ セミコンダクター株式会社 三橋 理一郎
 ・14:05 ~「400G/laneに向けたSiプラットフォーム上メンブレンInP系EA-DFBレーザ」
                            NTT株式会社 相原 卓磨
 ・15:05 ~「CPO用高密度ポリマー光導波路付きガラス基板」
                         大日本印刷株式会社 北乾 巧也
 ・16:00 ~ ポスターセッション・名刺交換会(懇親会(無料)を同時開催します)

お問合せ先: 光産業技術振興協会、野間口
TEL: 03-5225-6431
FAX: 03-5225-6435
E-mail: pdevice@oitda.or.jp