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  • 理研、SACLAとSPring-8の光で生体分子複合体のナノ構造を解明

    理研、SACLAとSPring-8の光で生体分子複合体のナノ構造を解明

    理化学研究所と英国リバプール大学は、X線自由電子レーザー（XFEL）光と高輝度放射光を使い、結晶化が困難な生体分子複合体「RNA干渉（RNAi）マイクロスポンジ」の3次元ナノ構造を観測することに成功した。（ニュースリリー...

    2014.05.07
  • 慶大ほか、腸管免疫系と腸内細菌の共生関係の構築に必須の分子を発見

    慶大ほか、腸管免疫系と腸内細菌の共生関係の構築に必須の分子を発見

    科学技術振興機構（JST）課題達成型基礎研究の一環として、慶應義塾大学教授の長谷耕二氏（理化学研究所客員主管研究員／東京大学医科学研究所非常勤講師）らは腸管の免疫細胞が腸内細菌と共生するために必須の分子をマウスの実験で明...

    2014.05.07
  • 理研、細胞外マトリクスの形態形成における新たな働きを発見

    理研、細胞外マトリクスの形態形成における新たな働きを発見

    理化学研究所は、ショウジョウバエの胚において、細胞外マトリクス（基質）の弾性力が気管の形態形成を制御していることを明らかにした。そして、管の長さと形状の安定性は気管上皮細胞の拡張力が細胞外マトリクスの弾性力と拮抗すること...

    2014.05.02
  • 東北大や原研など，量子ビームの合わせ技で銅酸化物高温超伝導体における電子の動きを捉えることに成功

    東北大や原研など，量子ビームの合わせ技で銅酸化物高温超伝導体における電子の動きを捉えることに成功

    東北大学 金属材料研究所・教授の藤田全基氏と日本原子力研究開発機構 量子ビーム応用研究センター・研究主幹の石井賢司氏，京都大学 基礎物理学研究所・教授の遠山貴己氏らの研究グループは，ミラノ工科大学，欧州シンクロトロン放射...

    2014.05.02
  • JALと野村総研，航空機整備／貨物搭降載業務にウェアラブルデバイスを導入し，ホノルル空港で実証実験を開始

    JALと野村総研，航空機整備／貨物搭降載業務にウェアラブルデバイスを導入し，ホノルル空港で実証実験を開始

    日本航空と野村総合研究所は共同で，米国ホノルル空港にてGoogle Glassをはじめとした，ウェアラブルデバイスを活用し，先進的な業務スタイルの追及を目的とした実証実験を開始した（ニュースリリース）。 具体的にはウェア...

    2014.05.02
  • 理研など，SACLAを用いて真空に潜んだ未知の場を探索した結果を発表

    理研など，SACLAを用いて真空に潜んだ未知の場を探索した結果を発表

    理化学研究所 放射光科学総合研究センター・グループディレクターの矢橋牧名氏，東京大学　大学院理学系研究科・教授の浅井祥仁氏，東京大学　素粒子物理国際研究センター・助教の難波俊雄氏らの研究グループは，ヒッグス場以外にも宇宙...

    2014.05.02
  • 理研，平成26年度SACLA産学連携プログラムを募集

    理研，平成26年度SACLA産学連携プログラムを募集

    理化学研究所 放射光科学総合研究センター（RSC）は，平成26年度X線自由電子レーザー（XFEL）施設「SACLA」産学連携プログラムの公募を行なっている。 このプログラムはSACLAの産業利用振興に必要な調査研究を目的...

    2014.05.02
  • ショットモリテックス，16Kラインスキャンカメラ用レンズを発売

    ショットモリテックス，16Kラインスキャンカメラ用レンズを発売

    ショットモリテックスは，16K（16000画素）カラーラインスキャンカメラに対応したマシンビジョンレンズ「ML-F90C-07」を開発，4月30日より販売を開始した（プレスリリース）。価格は35万円（税抜）。 このレンズ...

    2014.05.01
  • 2013年半導体世界市場，日本勢は苦戦

    2013年半導体世界市場，日本勢は苦戦

    IHS Technology は4月23日「2013 年 世界半導体マーケットシェア・ランキング（確定値） 」を発表した（同社ホームページ）。 2013 年に拍車をかけた、第 4 四半期の成長 それによると，2013 年...

    2014.05.01
  • エドモンド・オプティクス，Cマウント変倍レンズを発売

    エドモンド・オプティクス，Cマウント変倍レンズを発売

    エドモンド・オプティクス・ジャパンは，「TECHSPEC® 変倍レンズ」の発売を開始した。この多目的レンズは，広範なアプリケーションにおける適応性を最大化するため，選択可能な実視野サイズを提供する。 被写界深度調整用の絞...

    2014.05.01

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