編集部
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設計特論9—EUV光学系2—
5.6.3 円弧照明光学系 投影光学系が6枚で構成されているように,EUVでは照明系も少ない枚数で構成することが求められる。一方,本連載第26回5.4.2項の表11に示したように,照明系は多岐な要求を実現することを求めら...
2024.12.10 -
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設計特論8—EUV光学系1—
5.6 EUV光学系 半導体露光装置は光による微細加工の代表例である。微細加工における最小解像線幅Rはこれまで何度も出てきた関係式 (39) で示される。式(39)はRayleighの式と言われ,Rを小さくするには短...
2024.11.10 -
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設計特論7—ガウスビームの結像—
5.5 ガウスビームの特性 筆者の恩師である小倉磐夫先生は「エレクトロニクスの本質は増幅にあり,増幅作用のある技術こそが大きく成長する。自分がレーザの研究を始めたのもそれがきっかけであった」という主旨のことをおっしゃった...
2024.10.10 -
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