東京工業大学教授の小山二三夫氏は，米国光学会（The Optical Society：OSA）から，2019年ホロニャック賞（2019 Nick Holonyak，Jr. Award）を受賞することが決まった（ニュースリリース）。
OSAは，光学・フォトニクス関連分野における世界最大規模の国際学会。ホロニャック賞は，半導体技術の黎明期に初めて半導体による可視光の発光を成功させ「LEDの父」と呼ばれるニック・ホロニャック2世博士を記念した国際賞で，1997年に創設された。光半導体デバイス・材料に関して顕著な貢献のあった個人を対象として，毎年1名に授与されている。
過去には，半導体ヘテロ構造の発明で2000年ノーベル物理学賞を受賞したジョレス・イヴァノヴィッチ・アルフョーロフ博士（2000年）や，青色発光ダイオードの開発で2014年ノーベル物理学賞を受賞した中村修二博士（2001年）も同賞を受賞している。国内では，東京大学の荒川泰彦博士（2011年）に次いで，3人目の受賞となる。
今回，小山氏の業績として「面発光レーザフォトニクスとその集積技術への顕著な貢献」が認められ，2019年受賞者として選出された。贈呈式は，2019年5月に米国サンノゼで開かれる2019年レーザー・電子工学会議の会期中に行なわれる予定。
