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Geの記事一覧

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  • 筑波大，ガラス上Ge薄膜の正孔移動度を大幅向上

    筑波大学の研究グループは，ガラス上に合成した半導体薄膜として最高の正孔移動度を持つゲルマニウム（Ge）薄膜の開発に成功した（ニュースリリース）。 Geは，光検出器や高効率太陽電池の基板材料として利用されている他，シリコン...

    2017.12.06

  • 阪大ら，Ge素子で室温でのスピン流伝導を実証

    大阪大学と東京都市大学の研究グループは，高性能なスピントロニクス材料（ホイスラー合金）とゲルマニウムへの原子層不純物ドーピング技術を併用した独自のスピン注入・検出技術により，次世代の半導体チャネル材料として応用が期待され...

    2017.08.07

  • 産総研，Ge超薄膜で電子移動度の向上を確認

    産業技術総合研究所（産総研）は，シリコン（Si）の性能を凌駕する材料として有望視されているゲルマニウム（Ge）の膜厚10nm以下の均一な超薄膜構造の作製法を開発した（ニュースリリース）。 さらにこのナノメートルレベルの均...

    2017.06.06

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