ナノ／マイクロエレクトロニクス製造サプライチェーンの国際的な工業会であるSEMIは4月13日（米国時間），最近出版されたSEMIレポート「2014 Photomask Characterization Summary」に基づき，2014年の半導体フォトマスクの世界市場が32億ドルとなり，2016年には34億ドルに達することが予測されると発表した（ニュースリリース）。

フォトマスク市場は2013年に1%，2014年に3%の成長を遂げ，2015年から2016年にかけてもそれぞれ4%と3%の成長が見込まれる。フォトマスク市場をけん引しているのは，45nm未満の微細プロセスであり，地域的には半導体の製造が拡大するアジア太平洋地域となっている。台湾が5年連続で最大市場となり，今回の予測の範囲においても最大市場となることが予測されている。

32億ドルのフォトマスク販売額は，ウェーハプロセス材料市場の13%を占め，シリコンウェーハとガスに次ぐ大きさとなる。過去との比較では，2003年のウェーハプロセス材料市場に占めるフォトマスクの比率は18%だった。

もうひとつの注目されるトレンドは，内製マスクショップの重要性が高まっていることだとしている。2011年から2012年にかけての集中的な設備投資および2013年以降の円安を背景に，内製マスクショップは外販マスクサプライヤに対して市場シェアを拡大し，全フォトマスク市場において2013年の49%から昨年は53%を占めるに至った。2003年のフォトマスク市場に占める内製マスクショップの比率は31%だった。