フォトレジスト

フォトレジストの記事一覧

全6件中 1〜6件目を表示

東大，光に対して安定な光分解材料を開発

東京大学の研究グループは，光と酸がそろった時のみ分解可能な高分子材料を開発し，光に対して安定でありながらも，酸の存在下で光分解できる材料を実現した（ニュースリリース）。光分解性材料は，局所的な分解を利用した材料微細加工...
2022.08.18
2026年半導体材料市場，21年比3割増の444億ドル

富士経済は，半導体製造工程で使用される主要な材料の世界市場を調査し，その結果を「2022年半導体材料市場の現状と将来展望」にまとめた（ニュースリリース）。それによると，2021年は，半導体不足が深刻化し，様々なエレク...
2022.06.07
2026年フォトレジスト市場，2020年比52.9%増に

富士経済は，感光性樹脂およびその原材料の世界市場を調査し，その結果を「2021年光機能材料・製品市場の全貌」にまとめた（ニュースリリース）。それによると，半導体前工程に用いられるg線/i線，KrF，ArF，液浸ArF...
2021.07.12
トクヤマ，フォトレジスト用現像液を増産へ

トクヤマは，フォトレジスト用現像液であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（TMAH）の需要増に対応するため，同社徳山製造所において製造設備の増強を決定したと発表した（ニュースリリース）。同社は，ICケミカル事業を中...
2018.08.07
京大，汎用機能性モノマーを交互に並べた高分子を合成

京都大学の研究グループは，温度応答性を示す高分子を与えるN-イソプロピルアクリルアミド（NIPAM）と，pH応答性を示す高分子を与えるメタクリル酸（MAA）が交互に配列した高分子を世界で初めて合成した（ニュースリリース）...
- ニュース
- 光技術・研究開発
2018.07.26
フォトレジスト2021年市場，129.1%増の1500億円に

富士キメラ総研は，次世代テクノロジーによって需要が押し上げられ，かつ新規開発によりニーズが創出され成長が期待できるエレクトロニクス製品向け先端材料市場を調査し，その結果を「2018年エレクトロニクス先端材料の現状と将来...
2018.03.13

新着ニュース

人気記事

LSTC、光電融合を加速する半導体パッケージ技術開発に着手

LSTC、光電融合を加速する半導体パッケージ技術開発に着手 2026年4月14日
京セラ、ウシオ電機の半導体レーザー事業を買収へ

京セラ、ウシオ電機の半導体レーザー事業を買収へ 2026年4月15日
フォトニック結晶レーザーが拓く「高輝度半導体レーザー」の次章

フォトニック結晶レーザーが拓く「高輝度半導体レーザー」の次章 2026年4月2日
セブンシックス、オムロンからレーザー加工技術を譲受

セブンシックス、オムロンからレーザー加工技術を譲受 2026年4月10日
なぜ今「量子」なのか　OPIE'26で新フェア、産学官が本格連携

なぜ今「量子」なのか　OPIE'26で新フェア、産学官が本格連携 2026年4月15日

編集部おすすめ