トクヤマ,フォトレジスト用現像液を増産へ

著者: sugi

トクヤマは,フォトレジスト用現像液であるテトラメチルアンモニウムヒドロキシド(TMAH)の需要増に対応するため,同社徳山製造所において製造設備の増強を決定したと発表した(ニュースリリース)。

同社は,ICケミカル事業を中期経営計画における成長事業として位置付けており,ICケミカル事業の主要製品のTMAHは,半導体市場における微細化の進展に伴い,高純度なフォトレジスト用現像液として需要拡大が見込まれているという。同社は市場のニーズに対応するため,製造設備を増強することで事業拡大を図る。

今回の増強により,TMAHの生産能力は50%増強されることとなる。 TMAHの製造設備は徳山製造所徳山工場内に建設し,2020年4月の営業運転開始を予定している。同社ではこの増設を通じてTMAHの供給体制をより一層拡充し,さらなる安定供給を図るとともに,幅広い用途展開を推進するとしている。

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