キヤノン,FPD露光装置を発売

著者: admin

キヤノンは,第8世代ガラス基板(2,200×2,500mmサイズのガラス基板)に対応したFPD(フラットパネルディスプレー)露光装置の新製品として,1.5µm(L/S)の解像力と±0.35µmの重ね合わせ(オーバーレイ)精度を実現した「MPAsp-H1003H」を2022年7月下旬に発売すると発表した(ニュースリリース)。

近年,テレワークやオンライン教育の急速な普及により,ノートPC・タブレットなどのIT機器用ディスプレーの需要が増加している。さらに,電気自動車の普及や自動運転技術の向上による車載用ディスプレーの需要増加が見込まれており,これらのディスプレーは,薄型・軽量化とともに高精細さが求められている。

これまで高精細なディスプレー向けのパネルは,第6世代ガラス基板(1,500×1,850mmサイズのガラス基板)で量産されていたが,1枚のガラス基板からより多くのパネルを製造できる第8世代ガラス基板での量産ニーズが増えているという。

この製品は,65型パネルを一括で露光できる,第8世代ガラス基板向け「MPAsp-H1003T」(2018年10月発売)の投影光学系を継承し,第6世代ガラス基板対応の「MPAsp-E813H」(2014年9月発売)で実績のある,超解像技術を採用することで,1.5µmの高解像力を実現。これにより,IT用ディスプレー向けパネルに求められる高解像力のニーズに応えるとともに,大型ディスプレーで求められるつなぎ目のない65型までのパネル製造も可能。

また,従来から定評のある高速ステージ技術を進化・改良し,プレートステージの性能を向上させたことで,「MPAsp-H1003T」に比べ生産性が約20%向上。さらに,「MPAsp-E813H」で実績のあるアライメント方式と倍率補正機構を組み合わせることで,「MPAsp-H1003T」と比べ約20%向上した重ね合わせ精度±0.35µmを実現した。

さらに,超解像技術を実現する照明モード切替機構と,露光線幅を安定させる露光スリット自動調整(SIC)機構を搭載したことで,多様化する製造プロセスへの対応力を強化するとともに,製造品質の安定化にも貢献するとしている。

キーワード:

関連記事

  • オーク製作所,ダイレクト露光装置で1μm回路形成

    オーク製作所は,NEDOの委託事業「省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業」において,フォトマスクを使用せず,半導体基板に回路パターンを焼き付けるダイレクト露光装置で,従来よりも高い解像性および位置合わ…

    2025.09.01
  • ウシオ,解像度1.5μmのステッパ露光装置を上市予定

    ウシオ電機は,半導体アドバンスドパッケージ向けステッパとして,解像度L/S=1.5μm,1ショット100mm角以上の露光フィールドを実現する露光装置「UX-59113」の開発目途がたち,2026年度中に上市予定であると発…

    2025.08.18
  • SCREEN,ミドルレンジパッケージ基板直接描画装置発売

    SCREEN PE ソリューションズは,ミドルレンジパッケージ基板向け直接描画装置「LUPIOS」を新たに開発。2025年10月から販売を開始する(ニュースリリース)。 近年,AI技術の普及に伴い,データセンター向けサー…

    2025.05.29
  • inspec,露光装置事業からの撤退を発表

    inspecは,取締役会において,露光装置事業から撤退することを決議した。これに伴い,特別損失を計上するとともに,2024年6月14日に公表した2025年4月期の通期業績予想及び剰余金の配当予想を修正すると発表した(ニュ…

    2025.03.24
  • 東大ら,半導体露光プロセスのみで平面レンズを作製

    東京大学とJSRは,半導体露光プロセスのみを用いて平面レンズを大量生産することが可能な手法を開発することに成功した(ニュースリリース)。 レンズは,カメラ,センサーなどあらゆる光学機器に使用される最も基本的な光学素子の一…

    2025.01.17
  • ニコン,解像度1.0μmのデジタル露光装置を開発

    ニコンは,半導体のアドバンストパッケージ向けに,1.0μm(L/S)の高解像度で生産性の高い,デジタル露光装置の開発を進め,2026年度中の発売を予定していると発表した(ニュースリリース)。 人工知能(AI)技術の普及に…

    2024.10.22
  • キヤノン,新投影レンズ搭載の半導体露光装置を発売

    キヤノンは,半導体露光装置の新製品として,新開発の投影レンズを搭載したi線ステッパー「FPA-3030i6」を2024年9月24日に発売すると発表した(ニュースリリース)。 この製品は,高い透過率が特長のレンズ硝材を採用…

    2024.09.24
  • OIST,ミラー数を減らしたEUVリソグラフィーを提案

    沖縄科学技術大学院大学(OIST)の研究グループは,これまでの先端半導体製造の常識を覆すEUVリソグラフィー(極端紫外線露光技術)を提案した(ニュースリリース)。 EUVでは透過させるガラスのような透明な材料がないため,…

    2024.07.30

新着ニュース

人気記事

新着記事

  • オプトキャリア