キヤノン,FPD露光装置を発売

キヤノンは,第8世代ガラス基板(2,200×2,500mmサイズのガラス基板)に対応したFPD(フラットパネルディスプレー)露光装置の新製品として,1.5µm(L/S)の解像力と±0.35µmの重ね合わせ(オーバーレイ)精度を実現した「MPAsp-H1003H」を2022年7月下旬に発売すると発表した(ニュースリリース)。

近年,テレワークやオンライン教育の急速な普及により,ノートPC・タブレットなどのIT機器用ディスプレーの需要が増加している。さらに,電気自動車の普及や自動運転技術の向上による車載用ディスプレーの需要増加が見込まれており,これらのディスプレーは,薄型・軽量化とともに高精細さが求められている。

これまで高精細なディスプレー向けのパネルは,第6世代ガラス基板(1,500×1,850mmサイズのガラス基板)で量産されていたが,1枚のガラス基板からより多くのパネルを製造できる第8世代ガラス基板での量産ニーズが増えているという。

この製品は,65型パネルを一括で露光できる,第8世代ガラス基板向け「MPAsp-H1003T」(2018年10月発売)の投影光学系を継承し,第6世代ガラス基板対応の「MPAsp-E813H」(2014年9月発売)で実績のある,超解像技術を採用することで,1.5µmの高解像力を実現。これにより,IT用ディスプレー向けパネルに求められる高解像力のニーズに応えるとともに,大型ディスプレーで求められるつなぎ目のない65型までのパネル製造も可能。

また,従来から定評のある高速ステージ技術を進化・改良し,プレートステージの性能を向上させたことで,「MPAsp-H1003T」に比べ生産性が約20%向上。さらに,「MPAsp-E813H」で実績のあるアライメント方式と倍率補正機構を組み合わせることで,「MPAsp-H1003T」と比べ約20%向上した重ね合わせ精度±0.35µmを実現した。

さらに,超解像技術を実現する照明モード切替機構と,露光線幅を安定させる露光スリット自動調整(SIC)機構を搭載したことで,多様化する製造プロセスへの対応力を強化するとともに,製造品質の安定化にも貢献するとしている。

キーワード:

関連記事

  • ウシオ、解像力アップと重ね合わせ精度を向上した一括投影露光装置の受注開始

    ウシオ電機は、ウエハー向け一括投影露光装置UX-4シリーズの新製品として、φ6/φ8インチに対応し、解像力L/S=2.8μmと重ね合わせ精度向上を実現させた「UX-45114SC」を、2026年Q1より受注開始すると発表…

    2025.12.19
  • ニコン、R2Rマスクレス露光 共創ラボ設立

    ニコンは、フレキシブルエレクトロニクスの量産実用化に向けた共創拠点「S3S LAB(エス スリー エス ラボ)」を開設し、Roll to Roll(R2R)方式のマスクレス露光装置を中核設備として導入した(ニュースリリー…

    2025.12.17
  • ニコン、半導体ウエハー計測装置の最新機種を開発

    ニコンは、露光プロセス前のウエハーを計測し、その補正値を露光装置に反映させることで高い重ね合わせ精度を実現する、アライメントステーションの最新機種「Litho Booster 1000」の開発を進めていると発表した(ニュ…

    2025.12.12
  • SCREEN、先端半導体パッケージに対応する直接描画露光装置を開発

    SCREENセミコンダクターソリューションズは、先端半導体パッケージに対応する直接描画露光装置の最新モデル「DW-3100」を開発し、2025年12月に販売を開始すると発表した(ニュースリリース)。 近年、AI半導体の急…

    2025.12.10
  • オーク製作所,ダイレクト露光装置で1μm回路形成

    オーク製作所は,NEDOの委託事業「省エネエレクトロニクスの製造基盤強化に向けた技術開発事業」において,フォトマスクを使用せず,半導体基板に回路パターンを焼き付けるダイレクト露光装置で,従来よりも高い解像性および位置合わ…

    2025.09.01

新着ニュース

人気記事

編集部おすすめ

  • オプトキャリア