EVG,NIL向け製造サービスを開始

オーストリアEV Groupは,ユーザーを支援する新サービスとして,「EVGステップ&リピート(S&R)マスタリングショップ」を設立したことを発表した(ニュースリリース)。

このサービスでは,最新のEVG製装置とクリーンルーム施設を使用して,ウエハーレベルおよびパネルレベルのナノインプリント・リソグラフィ(NIL)プロセス用ワーキングスタンプ作製のための大面積のマスターテンプレートとスタンプの受託製造を行なう。

ユーザーはコストの削減ができるため,NILを製品設計に取り入れる障壁が低くなり,AR(拡張現実)導波路,光センサー用の高度なマイクロオプティクス,マイクロレンズ,ナノフォトニクス,シリコンフォトニクスなどのデバイスやアプリケーションに利用できるようになる。

このサービスでは,S&Rマスタリングを使用することで,シングルダイのハードマスターから大面積のマスタースタンプを作製できる。これらのスタンプは,基板に機能構造をインプリントするために用いられ,このS&Rマスターを使用して,数十~数百枚のワーキングスタンプの複製が可能。

この複製によるインプリント方式は,高価なマスターに摩耗や欠陥が発生するリスクを最小限に抑えるという。また,300mmウエハー,パネルサイズの基板,R2R(ロール・ツー・ロール)製造用のインサートなど,これまでにない大型の基板上に,より大きなマスターモールドを複製することができるため,より多くのデバイスを同時に製造できるだけでなく,継ぎ目のない,個々のデバイスをより大きく製造することが可能になるとする。

さらにこのサービスは,ダイヤモンドターニング,レーザー/電子ビーム直描方式など,スループットが低く実装コストが高いために,大きな基板にスケールアップするのが難しかった従来のマスター製作プロセスと比較して,歩留まりと製造コストに大きなメリットをもたらすとし,最高品質のダイを用いて,ステップ&リピートプロセスを実行することで,高品質なパターン形成を製造ラインで効率的に実現するとしている。

その他関連ニュース

  • NVIDIA,計算機リソグラフィを生成AIで大幅高速化 2024年03月21日
  • キヤノン,ナノインプリント半導体製造装置を発売 2023年10月18日
  • 京大ら,1nm半導体量子細線の作製に成功 2023年05月08日
  • 阪大ら,露光でマイクロロボットをその場製造 2022年08月26日
  • 北大,UVナノインプリントの樹脂設計に新知見 2022年08月09日
  • NTT-AT,高屈折率ナノインプリント樹脂を開発 2021年03月31日
  • ギガフォトン,微細化対応リソグラフィ光源を量産 2020年12月22日
  • 理科大ら,大面積モスアイフィルム製造方法を確立 2020年11月06日