ギガフォトン,露光用ArF/KrFレーザーを発表

ギガフォトンは,2020年,新技術を採用した最新半導体製造リソグラフィ用光源,ArF液浸用レーザー「GT66A」とKrFレーザー「G60K」の2機種を,新製品としてラインナップすると発表した(ニュースリリース)。

近年のIoTの普及やAIの実用化による半導体用途拡大に伴い,半導体チップには通信速度のさらなる高速化とより大量のデータ処理が求められている。

特に2020年は5G(第5世代移動通信)の一般向けサービスが開始され,サブ10nmノードの小型・高速・低消費電力のロジックICや,爆発的に増加するデータを保存する大容量メモリチップが必要となる。

新型ArF液浸用レーザー「GT66A」は,新開発の光学モジュールを搭載することで空間的なコヒーレンスを低減し,露光面でのビーム均一性を改善することに成功した。

また新型KrF用レーザー「G60K」は,約15年ぶりにフルモデルチェンジをし,新型電源ユニットを導入することで,従来比1.5倍の出力を可能にした。

同社は今後も,新技術を搭載した新製品ラインナップで,次世代の産業界の発展に貢献していくとしている。

その他関連ニュース

  • 【interOpto2024】大興製作所,NIRとSWIRのSPOT光源を開発 2024年10月30日
  • ニコン,解像度1.0μmのデジタル露光装置を開発 2024年10月22日
  • キヤノン,新投影レンズ搭載の半導体露光装置を発売 2024年09月24日
  • 産総研ら,既存の光度標準電球を代替する光源を開発 2024年08月21日
  • OIST,ミラー数を減らしたEUVリソグラフィーを提案 2024年07月30日
  • NICT,光源一つで大容量コヒーレント光通信に成功 2024年07月24日
  • 大興製作所,SPOT光源の波長ラインナップを強化 2024年06月03日
  • SCREEN,パッケージ基板向け直接描画装置を発売 2024年06月03日