OPIC 2026

光学とフォトニクスにおける新興分野と探究研究に関する国際会議

光学・フォトニクス国際会議（OPIC）は、光学・フォトニクス国際展示会（OPIE）と共催され、世界中の研究者と開発者が一堂に会し、光学とフォトニクスの科学と産業について議論する場となっています。毎年開催されるこの会議の目的は、最先端の成果を展示し、科学技術によって実現される未来社会への指針を発信することです。

OPICは2012年の創設以来、毎年4月にパシフィコ横浜で開催されています。毎年新たな専門国際会議が追加され、参加者も増加しており、日本発の重要な国際会議としての地位を確立しています。現在、OPICはレーザー、バイオメディカル、ナノフォトニクス、メタサーフェス、光計測、光マニピュレーション、X線光学、テラヘルツ、IoT、ディスプレイ・照明、高エネルギー密度科学、電力伝送、宇宙・地球科学、農業向けフォトニクスなど、幅広い分野をカバーする専門国際会議で構成されています。

OPICは、光学、フォトニクス、およびその応用分野における最新の科学技術の進歩を参加者が共有するための効率的なフォーラムとして、世界最大級の国際会議イベントの一つへと発展しました。共通の要素技術に基づき、様々な光学関連技術会議を一堂に開催し、様々な分野における需要と供給を共有することで、OPICはこれらの技術の開発と応用を促進しています。

2019年までは、会議数、論文数、参加者数、参加国数ともに順調に成長を続けてきました。OPIC2020、2021はCOVID-19の影響による困難な状況を乗り越え、2023年からは完全対面形式に戻りました。OPIC2025では、いくつかの専門国際会議が例年開催されなかったり、海外で開催されたりしたため、参加専門国際会議数はOPIC2024に比べて若干減少しましたが、メタサーフェスと農業向けフォトニクスに関する2つの会議が新たに追加されました。OPIC2025では14の専門国際会議が開催され、参加者は計1,152名でした。そのうち、海外からの参加者は43カ国と約4割を占めました。この海外参加者比率は日本で開催される他の国際会議と比べても大幅に高く、日本で開催されるOPICは、研究者が集まる場として改めて高い認知度を獲得したと言えるでしょう。

OPIC 2026では、過去最多となる18の専門分野別国際会議が開催される予定です。SPIEとの連携を深め、産学交流を強化し、フォトニクス技術と産業の振興をリードする国際会議の開催を目指します。参加者の皆様には、関係機関と直接お会いして有意義な議論を行い、実りある連携を育んでいただけることを期待しております。皆様のご来場を心よりお待ちしております。