2025年度第3回フォトニックデバイス・応用技術研究会『シリコンフォトニクス・異種材料集積技術』

2025年度第3回フォトニックデバイス・応用技術研究会 『シリコンフォトニクス・異種材料集積技術』
日時:
会場:
NTT 厚木研究開発センタ 講堂
主催:
フォトニックデバイス・応用技術研究会

■プログラム
〇13:00~13:05 事務連絡・幹事挨拶

〇13:05~13:55
光電融合に向けたメンブレンInP系光デバイス
NTT株式会社 藤井 拓郎氏

〇14:05~14:55
InP/Si異種材料集積技術を用いた波長可変レーザ(仮)
技術研究組合光電子融合基盤技術研究所 平谷 拓生氏

〇15:05~15:55
シリコンマイクロリング変調器を用いたコヒーレント送信器(仮)
東京大学 大学院工学系研究科 種村 拓夫氏

〇16:00~18:00
ポスターセッション・名刺交換会 (※懇親会(無料)を同時開催いたします)

参加申込締切:【10月15日】
お申込みは、下記申込フォームよりお願いいたします。
https://forms.office.com/r/waMvfApgMy

参加費:
一般:18,000円(税込)
会員・幹事と同じ所属団体でご紹介がある方:8,000円(税込)
大学関係者、学生:1,500円(税込)
(銀行振込でお支払いください。)
URL:
https://www.oitda.or.jp/study/pd/
備考:
新規会員も募集中です。詳しくは研究会HPをご覧ください。
https://www.oitda.or.jp/study/pd/

お問合せ先: 光産業技術振興協会 フォトニックデバイス・応用技術研究会事務局
TEL: 03-5225-6431
E-mail: kohda@oitda.or.jp