光技術総合展示会「interOpto-光とレーザーの科学技術フェア」で，朝日分光【光学薄膜フェア No. D-32】は，スパッタリング成膜によって，高透過率，急峻な立ち上がり，一枚基板上への成膜を実現した高性能なバンドパスフィルターを紹介する。

同社が，これまでIAD蒸着多層膜に加えて採用したスパッタリング法は，素材原子を直接基板上に堆積させる上，基板に堆積する原子の運動エネルギーがIAD法の堆積原子のそれよりも1桁以上大きいため，IAD法よりもはるかに膜質のよい薄膜が得られるという。

今回，複数基板だった従来品を一枚の基板にしたことで，にじみが少なくなり、撮像系にも使用できるとする。また，一枚基板になったことで透過率が高まり，さらに，設計の見直しによって，分光特性は立ち上がりが急峻でスソ切れが良くなったとしている。

同社は多層膜製造プロセスに応じて，装置の内部構造や配置を変えた専用装置を数多く作っており，顧客の要求に応じた多層膜を生産できる。今回のバンドパスフィルターは，標準品として，紫外から近赤外域までラインナップしており，1枚から注文可能。外形加工やカスタムにも対応するとしている。