キヤノン,露光装置向けソリューションサービス開始

キヤノンは,半導体露光装置のサポートノウハウと,露光工程を含む半導体製造に関する膨大なデータを統合することで,サポート業務の効率化と,最適なプロセスの提案を実現するソリューションプラットフォーム「Lithography Plus(リソグラフィ プラス)」のサービス提供を2022年9月5日より開始した(ニュースリリース)。

同社は高い処理能力を誇るKrF半導体露光装置や,多様なデバイスに対応するi線半導体露光装置のラインナップを展開しており,これらの露光装置を導入したユーザーのサポートに長年取り組んできたという。このサービスは,これまでに蓄積したノウハウやデータを統合的に活用しソリューションを創出するプラットフォームで,サポート業務を効率化すると同時に,露光装置の稼働率を高め,ユーザーの生産性向上に貢献するとしている。

このプラットフォームは,露光装置の状態を分析する機能や定期メンテナンス結果を分析する機能,装置が停止した要因を分析する機能を搭載。装置を操作するオペレーターは,これらのデータに基づき,部品交換やメンテナンス等の装置運用計画を容易に作成することができ,露光装置の適切な品質管理が可能となる。また,工場内の複数の露光装置データを俯瞰表示するDash Board機能を搭載し,オペレーターのメンテナンス業務をさらに効率化するという。

また,露光装置の状態を監視し,異常発生や予兆を検知する異常検知機能で,装置の停止を防止。さらに,自動復帰機能により,復旧作業を支援する。自動復帰できない場合は,装置状態を分析し,復旧方法をわかりやすく記載した復旧手順書を提示することで,スムーズな復帰が可能となる。同社のエキスパートエンジニアがリモートで装置状態を共有・把握し,オペレーターからの問い合わせにきめ細かく応えるリモートコンシェルジュサービスも提供する。

さらに,これまでに同社が培ってきた露光装置の最適化事例を凝縮しレシピを最適化するプロセスソリューション機能を搭載。精緻な位置合わせや線幅制御設定が自動で最適化されたレシピを提供することで,新しい半導体プロセス投入の初期から高い歩留まりの実現を支援する。APC(Advanced Process Control)などのプロセス機器とのインターフェースも備えており,生産管理システムとの連係動作が可能となるとしている。

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