ギガフォトンは，新型KrF露光装置用光源「G60K」の量産を開始したと発表した（ニュースリリース）。
世界的な半導体不足が依然として続く中，RF通信処理や車載半導体等に使われる40nm以前の成熟したノードへの半導体需要増，また3D NAND生産技術におけるレイヤ数拡大による容量増大を受け，KrFリソグラフィ需要は2023年までに240%の拡大（2019年対比）が予想されているという。
2020年11月に出荷を開始したこの光源は，高い需要に応えるべく今年11月より量産を開始した。その大きな特長は，業界の求める稼働率向上と環境に対するサステナビリティーを提供していることにあるという。
稼働率向上は，60Wの高出力による露光装置の処理能力向上と，モジュールの耐久性向上によるメンテナンス機会低減により実現。改良した新型電源は，消費電力5%以上の削減を実現し，サステナビリティーと同時にユーザーのコスト削減にも資する。
また，この製品のプラットフォームは出力90Wまで拡張可能となっており，今後のさらなるスループット向上のニーズにも対応できるとしている。
この製品の主な仕様は次の通り。
発振波長：248nm，出力：40W-60W，パルスエネルギー：10mJ-15mJ，発振周波数：4000Hz
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