ギガフォトン,最新モデルKrF光源の量産を開始

ギガフォトンは,新型KrF露光装置用光源「G60K」の量産を開始したと発表した(ニュースリリース)。

世界的な半導体不足が依然として続く中,RF通信処理や車載半導体等に使われる40nm以前の成熟したノードへの半導体需要増,また3D NAND生産技術におけるレイヤ数拡大による容量増大を受け,KrFリソグラフィ需要は2023年までに240%の拡大(2019年対比)が予想されているという。

2020年11月に出荷を開始したこの光源は,高い需要に応えるべく今年11月より量産を開始した。その大きな特長は,業界の求める稼働率向上と環境に対するサステナビリティーを提供していることにあるという。

稼働率向上は,60Wの高出力による露光装置の処理能力向上と,モジュールの耐久性向上によるメンテナンス機会低減により実現。改良した新型電源は,消費電力5%以上の削減を実現し,サステナビリティーと同時にユーザーのコスト削減にも資する。

また,この製品のプラットフォームは出力90Wまで拡張可能となっており,今後のさらなるスループット向上のニーズにも対応できるとしている。

この製品の主な仕様は次の通り。
発振波長:248nm,出力:40W-60W,パルスエネルギー:10mJ-15mJ,発振周波数:4000Hz

その他関連ニュース

  • SCREEN,次世代パターン用直接描画装置を開発 2022年01月13日
  • ギガフォトン,最先端液浸露光光源が本格稼働 2021年11月02日
  • ニコン,中小型パネル向け露光装置を発売 2021年10月26日
  • ニコン,半導体デバイス用ArF液浸スキャナー開発 2021年10月20日
  • TEL,次世代EUV露光装置に塗布現像装置を導入 2021年06月11日
  • ギガフォトン,微細化対応リソグラフィ光源を量産 2020年12月22日
  • EVG,量産対応マスクレス露光装置を発表 2020年10月19日
  • キヤノン,解像力1.0μmの露光装置を発売 2020年06月24日