理科大ら,「拭ける」モスアイ構造の形成に成功

東京理科大学とオーテックスの研究グループは,新しく開発した「高硬度で防汚性を持つ紫外線硬化性樹脂」を用いて,「モスアイ構造」の転写に成功した(ニュースリリース)。

モスアイ構造はナノオーダーの針状構造で,反射防止効果がある。これまでも,モスアイ構造を用いた反射防止フィルムは,大型ディスプレー表面に使用されてきたが,触ると壊れ,指紋が付くという問題点があった。

今回開発した技術を用いれば,触っても壊れず,防汚性もあり容易に汚れが拭き取れ,従来の問題点を克服するだけでなく,スマートフォンなどのタッチパネルへも使用できるようになるほか,モスアイ構造表面の水の接触角は150°以上で超撥水性を示し,この性質を利用した製品などにも使用できるという。

モスアイ構造の金型原盤は,東京理科大学が保有する特許技術で作製し,転写に関しては,ナノオーダーの転写が可能なナノインプリント技術を用いた。新開発品の樹脂を用いて作製されたモスアイ構造は,スチールウール700gfの擦過試験にも耐え,指紋のふき取りも容易に行なえた。これによって,触っても壊れないタッチパネル用反射防止フィルムが実現した。

モスアイ構造はナノオーダーの針状形状を持ち,可視光領域で反射防止効果がある。モスアイ構造は,グラッシーカーボン(GC)基板に酸素イオンビームを照射するだけで形成できるが,通常触ると壊れる程度の強度しかない。開発した技術では,GC上のモスアイ形状を特殊なUV硬化性樹脂にナノインプリント技術により転写することで,触っても壊れない超高強度の樹脂性モスアイ構造の複製に成功した。

さらに,このUV硬化性樹脂には防汚成分が含まれているため,指紋などのふき取りも可能となった。また転写されたモスアイ構造は反射防止効果に加え,視認性も向上したとしている。

キーワード:

関連記事

  • キヤノン、世界初 ナノインプリントリソグラフィ技術を応用したウエハー平坦化技術

    キヤノンは、ナノインプリントリソグラフィ(NIL)技術を応用し、ウエハーを平坦化する「Inkjet-based Adaptive Planarization」(IAP)技術を開発し、世界で初めて実用化した(ニュースリリー…

    2026.01.15
  • 東大ら,テラヘルツ~深紫外で98%超の吸収構造実現

    東大ら,テラヘルツ~深紫外で98%超の吸収構造実現

    東京大学,フィンランドUniversity of Eastern Finland,リトアニアState Research Institute Center for Physical Sciences and Techno…

    2025.06.16
  • NIMSら,ガラス基板に周期構造を簡易に転写

     物質・材料研究機構(NIMS)と米コネティカット大学は,ポリジメチルシロキサン(PDMS)という汎用材料の表面に形成したナノ/マイクロメートルスケールの周期構造(周期微細構造)を,ガラス基板に簡単に転写できる手法を開発…

    2025.04.18
  • 東京科学大ら,UVナノインプリントをシリフォトへ

    東京科学大学と東京応化工業は,UVナノインプリント(UV-NIL)を用いたシリコンフォトニクスプロセスを開発した(ニュースリリース)。 ナノインプリントリソグラフィ(NIL)は,ナノスケールのスタンプを用いた押印技術であ…

    2025.01.31
  • 【OPK】反射防止構造を付与した窓材やファイバ端面検査装置をデモ

    光・レーザー関西(OPK2024 7月17日,18日 マイドームおおさか)にてソーラボジャパン(ブースNo.O-04)は,「ファイバ端面検査装置VSD500」と「テクスチャー広帯域反射防止ウィンドウ」をデモ展示している。…

    2024.07.18

新着ニュース

人気記事

編集部おすすめ

  • オプトキャリア