ギガフォトン,新型ArFドライ光源を出荷

2019年9月17日ギガフォトンは,新型リソグラフィ用光源,ArFドライ「GT45A」を8月に出荷したことを発表した(ニュースリリース)。

最先端半導体製造プロセスでは,テクノロジー・ノード10/7nmという微細なプロセスが主流となり,今後もEUV光源の導入による7nm以下のさらなる微細化が注目されている。

その一方で,IoTの普及に伴い主に14-65nmといった技術的に成熟されたノードにおいて需要が高まり,新規投資による生産能力の拡大と,既存工場のアップグレードで対応する事が期待されていることから,ドライ露光装置のさらなる改善による,露光装置における高生産性と高い稼働率(Availability)が不可欠となっている。

この製品は,すでに生産現場で導入実績のある,以下のArF液侵用光源技術を適用させることで,ユーザーの幅広い期待に応える機能拡張性を備えるとしている。

・主要モジュールの寿命を従来品比で最大50%向上させ,光源のさらなる高稼働と装置稼動率を向上。
・最大で90Wまで高出力化することで,さらなる生産性向上が可能。
・4kHz~6kHzの繰り返し周波数が対応可能となり,露光機の要求に幅広く対応し,露光光学性能の向上に貢献。

その他関連ニュース

  • 2019年国内M2M市場,4.5%増の2,100億円 2021年01月13日
  • 浜ホト,多波長による半導体故障解析装置を開発 2020年12月25日
  • 豊技大,光干渉による半導体ガス検出チップを開発 2020年12月24日
  • ギガフォトン,微細化対応リソグラフィ光源を量産 2020年12月22日
  • NIMSら,無毒な直接遷移型の近赤向け半導体を発見 2020年12月15日
  • SCREEN,枚葉式洗浄装置を発売 2020年12月10日
  • 金沢大ら,ダイヤモンド-on-SiでMOSFETを作製 2020年12月09日
  • 産総研ら,2nm世代向け新構造トランジスタを開発 2020年12月08日