露光装置

露光装置の記事一覧

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  • ニコン,露光技術でAMSLらを提訴

    ニコンは同社の特許侵害行為の停止を求め,半導体露光装置を製造販売するオランダのASML Holding N.V. およびその関連会社(以下ASML)と,ASMLに光学部品を供給する,ドイツのCarl Zeiss SMT ...

    2017.04.25
  • 北大ら,フォトリソの感度を上げる添加剤を発見

    北海道大学と大阪大学は,ナノ構造体形成についての研究の成果として,半導体製造用材料であるレジスト材料の加工性能を大幅に改善する方法の開発に成功した(ニュースリリース)。 現在のフォトリソグラフィプロセスでは,化学増幅型レ...

    2016.12.21
  • ギガフォトンのEUV光源,発光効率5%で出力105Wを達成

    エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)プロジェクトにおいて,ギガフォトンは最先端半導体製造ラインでの稼働を想定したEUVスキャナー用レーザー生成プラズマ光源を完成させ,出力105Wの安定運転と,世界最高水準である発...

    2016.10.21

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