ドライレジスト

ドライレジストの記事一覧

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  • ラムリサーチのドライレジスト,EUVに適格と評価

    米ラムリサーチは,同社のドライフォトレジスト(ドライレジスト)技術が2nmおよび2nm以下のロジック回路におけるバックエンド・オブ・ライン(BEOL)の,28nmピッチのダイレクトプリントに適格であると,半導体研究機関の...

    2025.01.16
  • ラムリサーチ,EUVドライレジストでエコシステム

    米ラムリサーチは,米インテグリス,三菱ケミカルグループの米Gelestとの戦略的な協力体制を発表した(会社HP)。 この協力体制により,次世代半導体製造に用いられるEUV(極端紫外線)リソグラフィのためのラムリサーチのド...

    2022.07.14

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