Neg,CO2レーザーでビア加工が可能な大型基板開発

日本電気硝子(Neg)は,基板の大型化が求められる次世代半導体パッケージ向けに,515x510mm大型パネルサイズのガラスセラミックスコア基板「GCコア」を開発した(ニュースリリース)。

近年,データセンターの需要や,生成AIの普及に伴い,これらに使用される半導体にはさらなる高性能化が求められている。これに対応するためには,チップレットにより,複数のチップを一つのパッケージに収める必要があり,そのために基板の型化が必要となっている。

また,半導体の性能向上のために基板に搭載するチップの型化が進んでおり,これら規模なチップをより効率的に配置するためにも,型の基板が必要。このような課題に対し,同社は昨年6月にガラス粉末とセラミックス粉末の複合材を用いたGC コア(300mm角)基板を開発し,半導体メーカーに提案してきた。

同社は,この基板は,一般に広く普及しているCO2レーザー加工機を用いて高速かつクラックレスの穴開け加工が可能であるため経済的で,量産コストの低減が期待できるとしている。

その他関連ニュース

  • 2025年,建設開始予定の新規半導体工場は18棟 2025年01月08日
  • DNP,EUV向け2nm世代以降のパターン解像に成功 2024年12月13日
  • 浜ホト,米BAE Imagingを買収 光半導体事業を強化へ
    浜ホト,米BAE Imagingを買収 光半導体事業を強化へ 2024年12月10日
  • TEL,節水型300mmウエハーレーザー剥離装置を発売 2024年12月09日
  • ニコン,寸法を測定できる画像測定システムを発売 2024年12月05日
  • Neg,CO₂レーザーでビア加工できるガラス基板開発へ 2024年12月05日
  • 名大,高錫組成14族ゲルマニウム錫単結晶薄膜を創製
    名大,高錫組成14族ゲルマニウム錫単結晶薄膜を創製 2024年11月29日
  • 日立ハイテクら,高分解能Laser-PEEMを半導体応用
    日立ハイテクら,高分解能Laser-PEEMを半導体応用 2024年11月12日