三井化学とimec,EUVで戦略的パートナーシップ締結

三井化学とimecは,2023年12月13日,極端紫外線(EUV)露光用のカーボンナノチューブ(CNT)膜を使用した次世代ペリクルの事業化に向けた戦略的パートナーシップ契約を締結した(ニュースリリース)。

この戦略的パートナーシップ契約はCNT膜とペリクルを共同開発するもので,imecは三井化学での事業化に向けたコンサルテーションとEUV露光機での評価を行なう。

これらのペリクルは,EUV露光中の汚染からフォトマスクを保護するように設計され,高いEUV透過率(≧94%),非常に低いEUV反射率等の優れた光学特性,先端半導体製造における高い歩留まりとスループットに不可欠な特性を有する。

さらに,CNTペリクルは1kWを超えるEUV露光出力にも耐えられるため,蘭ASMLの露光機革新のロードマップにある次世代EUV露光機(>600W)にも対応する。これらの特性は,EUV露光機を量産プロセスで採用する企業から高い関心を集めているといい,両社は,先端半導体市場の要求を満たすためにCNTペリクルを共同開発していく。

三井化学はこの提携により,自社のCNTペリクル技術とimecのCNTペリクル基盤技術を融合させ,2025年~2026年をターゲットに,高出力EUV露光向け製品の導入を目指すとしている。

その他関連ニュース

  • 日立ハイテクら,高分解能Laser-PEEMを半導体応用
    日立ハイテクら,高分解能Laser-PEEMを半導体応用 2024年11月12日
  • 富士フイルム,EUV用フォトレジスト/現像液を発売 2024年11月05日
  • ニコン,解像度1.0μmのデジタル露光装置を開発 2024年10月22日
  • キヤノン,新投影レンズ搭載の半導体露光装置を発売 2024年09月24日
  • TDSLら,量子セキュア通信分野における覚書を締結 2024年09月09日
  • 東北大,カーボンナノチューブの新規合成法を開発 2024年09月05日
  • 東大,半導体レジストの現像前超高速検査技術を開発 
    東大,半導体レジストの現像前超高速検査技術を開発  2024年09月03日
  • 産総研ら,半導体のプラズマ加工ダメージを定量評価 2024年08月29日