ニコンは，ミドルクリティカルレイヤー向けのArF液浸スキャナー「NSR-S625E」を発売すると発表した（ニュースリリース）。
アプリケーションの多様化に伴い，求められる半導体が多岐に渡る中，半導体の製造に欠かせない露光装置に対するユーザーの要望は複雑化・高度化している。
同社は，ユーザーとの伴走活動を通じて，これまでも最適なソリューションを提供してきたが，多様化するニーズに今まで以上に応じるべく，新しいArF液浸スキャナーを開発し，ラインナップを拡充することにしたとする。
今回開発した製品は，これまで10年の販売実績を誇る「NSR-S622D」の後継機で，解像度は≦38nm，NA（開口数）は1.35，光源はArFエキシマレーザー（波長：193nm）。
スループットを約1.3倍向上（≧280 wafers/hour（96 shots））させ，稼働安定性を大幅改善，加えてiAS（inline Alignment Station：露光装置のスループットを落とすことなく，高速・高精度にウエハーを計測し，グリッドエラーの補正を可能にするシステム）を搭載しており，同社の半導体露光装置史上最高の生産性を実現し，様々な半導体デバイスの効率的な生産に貢献するとしている。
同社ではこの製品の発売時期を2024年2月に予定しているという。
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