キヤノンMJ,異方性エッチング加工装置を発売

著者: sugi

キヤノンマーケティングジャパン(キヤノンMJ)は,半導体製造におけるプラズマエッチング・アッシング装置「MAS-8220TP」を2022年9月1日に発売する(ニュースリリース)。オープン価格。

この装置は,近年自動車の電気制御などに使われ世界的に需要が高まっているパワー半導体をはじめ,通信機器,産業用機器で使用される電子デバイス製造向けプラズマエッチング・アッシング装置。

半導体製造におけるエッチングとは,基板となるウエハーの露光・現像を行なった後に,電気回路のパターンを化学的,物理的反応により形成する工程。この製品は,エッチングを行なう処理室(チャンバー)内の圧力制御範囲が従来機に比べて大きくなった。これにより異方性エッチング加工が可能となり,より精密かつ正確な回路の形成を実現するという。

これまで安価なエッチング装置では,等方性エッチングしか行なえず,より微細で複雑な回路を形成することが困難だった。この製品は,ハイエンドエッチング装置のみ行なうことができた異方性エッチングが可能になるため,製造コストの低減を実現するという。

また,これまで比較的容易なエッチング工程に使われていたハイエンドエッチング装置を,より複雑な工程に集中させることにより,装置の最適配置を実現し,半導体製造工程全体の生産性向上を支援するとする。

同社では,2025年までに「AS-8220TP」を含むMASシリーズで100台の販売を目指すとしている。

キーワード:

関連記事

  • OIST,ミラー数を減らしたEUVリソグラフィーを提案

    沖縄科学技術大学院大学(OIST)の研究グループは,これまでの先端半導体製造の常識を覆すEUVリソグラフィー(極端紫外線露光技術)を提案した(ニュースリリース)。 EUVでは透過させるガラスのような透明な材料がないため,…

    2024.07.30
  • 宇大ら,EUV光源を効率化するレーザー照射法を開発

    宇大ら,EUV光源を効率化するレーザー照射法を開発

    宇都宮大学,東京大学,九州大学,理化学研究所,米パデュー大学,アイルランド国立大学ダブリン校,広島大学は,極端紫外(EUV)光源を高効率化するためのマルチレーザービーム照射法を提案し,EUV光源を高効率化できることを実験…

    2024.07.30
  • TEL,EUV露光によるガスクラスタービーム装置発売

    東京エレクトロン(TEL)は,EUV露光による極微細パターニング工程向けガスクラスタービーム装置「Acrevia 」を発売すると発表した(ニュースリリース)。 この装置は,EUV露光による極微細なパターニング工程において…

    2024.07.10
  • 信越化学,半導体パッケージ基板製造装置と工法開発

    信越化学は,半導体パッケージ基板製造装置と新工法を開発した(ニュースリリース)。 半導体の高性能化をコスト低減の面から支える技術として,回路を個片化して一つのパッケージに収めるチップレットが注目を集めている。この技術では…

    2024.06.20
  • ラムリサーチ,パルスレーザー成膜装置を発売

    米ラムリサーチは,次世代MEMS技術によるマイクおよび無線周波数(RF)フィルターを実現する,世界初の量産向けパルスレーザー成膜(PLD)装置を発表した(ニュースリリース)。 この製品のシステムは,スカンジウム含有量の最…

    2024.04.02
  • ギガフォトン,最新ArF液浸光源機種を出荷

    ギガフォトンは,新型ArF液浸露光装置用光源「GT80A」を出荷したと発表した(ニュースリリース)。 最先端デバイス製造においては,微細化と共に高い生産性が求められている。これらの最先端デバイスでは,ウエハーに転写される…

    2024.04.02
  • 理研,超短パルスレーザーとエッチングで微細貫通穴作製

    理化学研究所(理研)は,超短パルスベッセルビームによる微細可溶部形成とその後の選択化学エッチングを用いてガラス製デジタルPCRチップを高速に作製することに成功した(ニュースリリース)。 従来のPCRをはるかに超える性能の…

    2024.01.12
  • キヤノンMJ,半導体検査用ナノX線CT装置を発売

    キヤノンマーケティングジャパン(キヤノンMJ)は,国内独占販売契約を締結している米Sigray製で,最高空間分解能300nmを実現したナノX線CT装置「EclipseXRM-900」を,2023年12月15日より発売した…

    2023.12.19

新着ニュース

人気記事

新着記事

  • オプトキャリア